一种基于液晶底片的四步相移正弦条纹场投射模块

    公开(公告)号:CN112764277A

    公开(公告)日:2021-05-07

    申请号:CN202011576045.5

    申请日:2020-12-28

    Abstract: 本发明属于3D测量技术领域,提供一种基于液晶底片的四步相移正弦条纹投影模块,特别适合用于微型化3D测量设备中;本发明采用液晶底片,仅包含两个COM电极和两个SEG电极,通过对电极施加驱动电压显示类正弦二进制填充图案,再通过投影成像镜头和扩展镜头,投射出正弦条纹;选择不同的加电组合方式,液晶底片可以分别显示四幅满足四步相移关系的类正弦二进制填充图案,从而通过分时控制投影出满足四步相移的四幅正弦条纹场。本发明结构控制简单,尺寸小巧,特别适合要求整机体积微型化的3D测量设备;同时,基于简单的结构和控制以及低成本的元器件,本发明投影模块比较容易低成本化。

    一种基于液晶底片的正弦条纹场投射模块

    公开(公告)号:CN111043989A

    公开(公告)日:2020-04-21

    申请号:CN201911291106.0

    申请日:2019-12-16

    Abstract: 本发明属于3D测量技术领域,提供一种基于液晶底片的正弦条纹场投射模块,特别适合用于微型化3D测量设备中;本发明采用液晶底片,通过电极选择组合显示二进制填充正弦图案,再通过投影成像镜头和扩展镜头,投射出正弦条纹,避开制作透射式正弦光栅中透过率不准确的问题,同时大幅度降低制作成本;电极选择组合使液晶底片可以分别显示三幅满足120°相移关系的二进制填充正弦图案,从而通过分时控制获得满足三步相移的三幅正弦条纹场,相移关系准确。本发明结构控制简单,尺寸小巧,特别适合要求整机体积微型化的3D测量设备;同时,基于简单的结构和控制以及低成本的元器件,本发明投影模块成本远低于DFP投影方式。

    一种基于液晶底片的正弦条纹场投射模块

    公开(公告)号:CN111043989B

    公开(公告)日:2021-12-03

    申请号:CN201911291106.0

    申请日:2019-12-16

    Abstract: 本发明属于3D测量技术领域,提供一种基于液晶底片的正弦条纹场投射模块,特别适合用于微型化3D测量设备中;本发明采用液晶底片,通过电极选择组合显示二进制填充正弦图案,再通过投影成像镜头和扩展镜头,投射出正弦条纹,避开制作透射式正弦光栅中透过率不准确的问题,同时大幅度降低制作成本;电极选择组合使液晶底片可以分别显示三幅满足120°相移关系的二进制填充正弦图案,从而通过分时控制获得满足三步相移的三幅正弦条纹场,相移关系准确。本发明结构控制简单,尺寸小巧,特别适合要求整机体积微型化的3D测量设备;同时,基于简单的结构和控制以及低成本的元器件,本发明投影模块成本远低于DFP投影方式。

    一种高帧率正弦条纹场投射模块

    公开(公告)号:CN112762860B

    公开(公告)日:2022-03-15

    申请号:CN202011576053.X

    申请日:2020-12-28

    Abstract: 本发明属于3D测量技术领域,提供一种高帧率正弦条纹场投射模块,特别适合用于微型化3D测量设备中;本发明包括:光刻片1、光通道隔离座2、发光芯片安装板3、投影成像镜头4、光扩展镜头5及发光显示通道控制电路6,发光芯片、光通道隔离座与光刻片共同构成发光阵列,发光阵列中包含若干个独立的发光显示通道;通过发光显示通道控制电路控制所述发光阵列依次显示三幅具有120°相移关系的类正弦二进制填充发光图案,在所述投影镜头和光扩展镜头的作用下,在目标区投影出具有三步相移关系的正弦条纹场。本发明高帧率正弦条纹场投射模块所投影的三幅正弦条纹场的相移关系精确,具有投影帧率高、制作精度高、制作成本低、且模块控制简单等优点。

    一种余弦条纹场投射模块

    公开(公告)号:CN109458954B

    公开(公告)日:2020-08-11

    申请号:CN201811517496.4

    申请日:2018-12-12

    Abstract: 本发明涉及到3D测量技术领域,提供一种余弦条纹场投射模块,特别适合用于微型化3D测量设备中;本发明采用二值化余弦图案,避开制作透射式余弦光栅中透过率不准确的问题,同时大幅度降低制作成本;将四幅满足90°相移关系的二值化余弦图案设计于同一底片上,然后通过投影成像镜头和扩展镜头,配合通道选择电路,获得满足四步相移的四幅余弦条纹场;本发明结构控制简单,尺寸小巧,特别适合要求整机体积微型化的3D测量设备;同时,基于简单的结构和控制以及低成本的元器件,本发明投影模块成本远低于可编程投影方式。

    一种基于液晶底片的四步相移正弦条纹场投射模块

    公开(公告)号:CN112764277B

    公开(公告)日:2022-03-15

    申请号:CN202011576045.5

    申请日:2020-12-28

    Abstract: 本发明属于3D测量技术领域,提供一种基于液晶底片的四步相移正弦条纹投影模块,特别适合用于微型化3D测量设备中;本发明采用液晶底片,仅包含两个COM电极和两个SEG电极,通过对电极施加驱动电压显示类正弦二进制填充图案,再通过投影成像镜头和扩展镜头,投射出正弦条纹;选择不同的加电组合方式,液晶底片可以分别显示四幅满足四步相移关系的类正弦二进制填充图案,从而通过分时控制投影出满足四步相移的四幅正弦条纹场。本发明结构控制简单,尺寸小巧,特别适合要求整机体积微型化的3D测量设备;同时,基于简单的结构和控制以及低成本的元器件,本发明投影模块比较容易低成本化。

    一种高帧率正弦条纹场投射模块

    公开(公告)号:CN112762860A

    公开(公告)日:2021-05-07

    申请号:CN202011576053.X

    申请日:2020-12-28

    Abstract: 本发明属于3D测量技术领域,提供一种高帧率正弦条纹场投射模块,特别适合用于微型化3D测量设备中;本发明包括:光刻片1、光通道隔离座2、发光芯片安装板3、投影成像镜头4、光扩展镜头5及发光显示通道控制电路6,发光芯片、光通道隔离座与光刻片共同构成发光阵列,发光阵列中包含若干个独立的发光显示通道;通过发光显示通道控制电路控制所述发光阵列依次显示三幅具有120°相移关系的类正弦二进制填充发光图案,在所述投影镜头和光扩展镜头的作用下,在目标区投影出具有三步相移关系的正弦条纹场。本发明高帧率正弦条纹场投射模块所投影的三幅正弦条纹场的相移关系精确,具有投影帧率高、制作精度高、制作成本低、且模块控制简单等优点。

    一种余弦条纹场投射模块
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109458954A

    公开(公告)日:2019-03-12

    申请号:CN201811517496.4

    申请日:2018-12-12

    Abstract: 本发明涉及到3D测量技术领域,提供一种余弦条纹场投射模块,特别适合用于微型化3D测量设备中;本发明采用二值化余弦图案,避开制作透射式余弦光栅中透过率不准确的问题,同时大幅度降低制作成本;将四幅满足90°相移关系的二值化余弦图案设计于同一底片上,然后通过投影成像镜头和扩展镜头,配合通道选择电路,获得满足四步相移的四幅余弦条纹场;本发明结构控制简单,尺寸小巧,特别适合要求整机体积微型化的3D测量设备;同时,基于简单的结构和控制以及低成本的元器件,本发明投影模块成本远低于可编程投影方式。

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