铂族金属硫族化物薄膜以及具备该铂族金属硫族化物薄膜的半导体材料

    公开(公告)号:CN117355948A

    公开(公告)日:2024-01-05

    申请号:CN202280036354.4

    申请日:2022-03-10

    Abstract: 本发明涉及由作为铂族金属的Ir和Ru的硫族化物构成的薄膜。该薄膜形成在预定的基材上且含有铂族金属硫族化物,所述铂族金属硫族化物由Ir2S3或IrS2、RuS2或RuSe2中的任一者构成。薄膜的膜厚为0.5nm以上500nm以下。在本发明中,在含有Ir2S3、IrS2、RuS2、RuSe2的薄膜中,通过实验方法和采用基于密度泛函理论(DFT)的第一性原理计算的模拟从而明确了通过照射近红外光而能够表现出光电效应。本发明是具有对于特别是近红外线区域的波长的光的灵敏度的特征、由迄今为止不为人所知的构成的铂族金属硫族化物构成的薄膜。

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