公开(公告)号：CN102713001A

公开(公告)日：2012-10-03

申请号：CN201080052371.4

申请日：2010-11-17

Applicant: 瑞科硅公司

Inventor： E·韦恩·奥斯本 ,  迈克尔·V·斯潘格勒 ,  莱维·C·艾伦 ,  罗伯特·J·格尔特森 ,  保尔·E·埃格 ,  沃尔特·J·施图平 ,  杰拉尔德·蔡因格尔

IPC: C23C16/442 ,  C23C16/44

CPC classification number: C23C16/442 ,  C23C16/24 ,  C23C16/4404 ,  C23C16/4417 ,  C23C16/45576 ,  H01L21/02532 ,  H01L21/0262 ,  Y10S118/05

Abstract: 公开了一种用于产生高纯度涂硅颗粒的流化床反应器系统。容器具有：外壁、在该外壁内侧的绝热层、至少一个位于该绝热层内侧的加热器、在该加热器内侧的可拆卸同心衬里、中央进口喷嘴、多个流态化喷嘴、至少一个冷却气体喷嘴、以及至少一个产品出口。该系统可以包括在所述衬里内侧的可拆卸同心套筒。在特定系统中，所述中央进口喷嘴被构造成用以在反应器腔室的中央产生一次气体竖直柱以最小化反应器表面上的硅沉积。

公开(公告)号：CN102713001B

公开(公告)日：2014-03-05

申请号：CN201080052371.4

申请日：2010-11-17

Applicant: 瑞科硅公司

Inventor： E·韦恩·奥斯本 ,  迈克尔·V·斯潘格勒 ,  莱维·C·艾伦 ,  罗伯特·J·格尔特森 ,  保尔·E·埃格 ,  沃尔特·J·施图平 ,  杰拉尔德·蔡因格尔

IPC: C23C16/442 ,  C23C16/44

CPC classification number: C23C16/442 ,  C23C16/24 ,  C23C16/4404 ,  C23C16/4417 ,  C23C16/45576 ,  H01L21/02532 ,  H01L21/0262 ,  Y10S118/05

Abstract: 公开了一种用于产生高纯度涂硅颗粒的流化床反应器。容器具有：外壁、在该外壁内侧的绝热层、至少一个位于该绝热层内侧的加热器、在该加热器内侧的可拆卸同心衬里、中央进口喷嘴、多个流态化喷嘴、至少一个冷却气体喷嘴、以及至少一个产品出口。该系统可以包括在所述衬里内侧的可拆卸同心套筒。在特定系统中，所述中央进口喷嘴被构造成用以在反应器腔室的中央产生一次气体竖直柱以最小化反应器表面上的硅沉积。