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公开(公告)号：CN116406328A
公开(公告)日：2023-07-07
申请号：CN202180073874.8
申请日：2021-09-22
Applicant: 琳得科株式会社
Inventor： 柄泽泰纪 , 村岛峻介
IPC: B32B27/00
Abstract: 本发明提供一种剥离膜，其为具备基材与设置于所述基材的至少一面侧的剥离剂层的剥离膜，其特征在于，所述剥离剂层由含有活性能量射线固化性成分和含巯基的聚有机硅氧烷的剥离剂组合物形成。该剥离膜发挥优异的剥离性。
