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公开(公告)号：CN101099093A
公开(公告)日：2008-01-02
申请号：CN200580046098.3
申请日：2005-12-28
Applicant: 琳得科株式会社
Abstract: 本发明涉及一种防反射薄膜，其在基材薄膜的至少一面上，依次具有(A)含有通过活性能量线照射形成的固化树脂和2～25重量％的防带电剂的硬涂层，厚度为1～20μm；以及(B)含有通过活性能量线照射形成的固化树脂和30～80重量％的多孔性二氧化硅颗粒的低折射率层，厚度为0.05～0.3μm，且表面电阻率为5×1012Ω/□以下。具有如下特征：防反射层是1层，其能有效防止图像显示元件的表面的光反射，同时，抑制尘埃和灰尘等附着的防带电效果的持续性和耐擦伤性优异，且耐溶剂性也优异。
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公开(公告)号：CN1272641C
公开(公告)日：2006-08-30
申请号：CN02108218.9
申请日：2002-03-27
Applicant: 琳得科株式会社
CPC classification number: G02B1/111
Abstract: 一种光学用膜，包括：(A)包含通过电离放射线固化的树脂的硬涂层，(B)包含通过电离放射线固化的树脂和金属氧化物的、折射率在1.70至1.95范围内的高折射率层I，(C)包含通过电离放射线固化的树脂和金属氧化物的、折射率在1.60至1.70范围内的高折射率层II，和(D)包含硅氧烷类聚合物的、折射率在1.37至1.47范围内的低折射率层，(A)至(D)层依次层叠在基膜的至少一面上。所述膜表现出极好的防反光性和极好的耐划痕性，可以低成本生产。
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公开(公告)号：CN100406916C
公开(公告)日：2008-07-30
申请号：CN02150275.7
申请日：2002-11-07
Applicant: 琳得科株式会社
CPC classification number: C08J7/045 , G02B1/105 , G02B1/111 , G02B1/14 , G02B1/16 , G02B1/18 , Y10T428/24504 , Y10T428/24802 , Y10T428/24942 , Y10T428/2495 , Y10T428/26
Abstract: 一种光学应用的膜，包括(A)含有金属氧化物和通过热或离子辐射固化的物质的硬涂层，其厚度为2-20μm，和(B)含有多孔硅石和聚硅氧烷基聚合物的低折射层，其折射率为1.30-1.45，厚度为40-200nm，层(A)和层(B)相继地层叠在基质膜的至少一个表面上。该膜具有优异的防止光反射的性能和优异的耐划伤性，并且能够以低的成本制造。
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公开(公告)号：CN1387052A
公开(公告)日：2002-12-25
申请号：CN02119878.0
申请日：2002-05-17
Applicant: 琳得科株式会社
IPC: G02B1/04
CPC classification number: G02B1/14 , G02B1/105 , G02B1/111 , G02B1/16 , G02B1/18 , H01J2211/44 , Y10S428/913 , Y10T428/24975 , Y10T428/256 , Y10T428/26 , Y10T428/263 , Y10T428/264 , Y10T428/265 , Y10T428/31663
Abstract: 一种光学用膜,包括:(A)包含通过电离辐射固化的树脂的硬涂层,(B)包含通过电离辐射固化的树脂和包括掺锑氧化锡的至少两种金属氧化物的、折光指数在1.65至1.80范围内的高折射率层,和(C)包含硅氧烷基聚合物的、折光指数在1.37至1.47范围内的低折射率层,(A)至(D)层都有特定的厚度,依次层叠在基膜的至少一面上。所述膜表现出极好的防反光性和极好的耐划痕性,可以低成本生产。
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公开(公告)号：CN101680972B
公开(公告)日：2012-11-21
申请号：CN200880017900.X
申请日：2008-05-27
Applicant: 琳得科株式会社
Abstract: 本发明提供防眩性透光性硬涂膜，其在透光性基材膜的至少一面依次形成分散有微粒的含活性能量线固化型化合物的固化性组合物的固化树脂层的(A)层及(B)层，其特征在于，(A)层和(B)层的合计膜厚为1～10μm，且相对于活性能量线固化型化合物100质量份在(A)层配合平均粒径为0.5～10μm的微粒A 0.5～60质量份，在(B)层配合平均粒径小于微粒A的平均粒径的微粒B。本发明的防眩性透光性硬涂膜可以充分显示防眩性、且可以将图像上的黑色更真黑地显示。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100378470C
公开(公告)日：2008-04-02
申请号：CN200480008717.5
申请日：2004-03-26
Applicant: 琳得科株式会社
IPC: G02B1/11
CPC classification number: G02B1/111 , G02B1/116 , G02B1/14 , G02B1/16 , G02F1/133502 , H01J29/896
Abstract: 公开了一种用于光学应用的膜，它有效地防止在图像显示器件，如PDP、CRT和LCD的表面上反光，显示出优良的抗划性和透光率，在各层之间提供优良的粘合性并可低成本地生产。该膜包括(A)高折射率的硬质涂布层(折射指数：1.60-1.75；厚度：2-20微米)，所述高折射率的硬质涂布层包括(a)具有针状的锑掺杂的氧化锡(沿着主轴的平均粒径为0.05-10微米，平均长径比为3-100)，(b)至少一种其它的金属氧化物，和(c)用电离辐射固化的材料，和(B)低折射率的层(折射指数：1.30-1.45；厚度：40-200纳米)，其中在基底膜的至少一面上按序层压所述层(A)和(B)。
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公开(公告)号：CN1772825A
公开(公告)日：2006-05-17
申请号：CN200510119405.8
申请日：2005-11-11
Applicant: 琳得科株式会社
IPC: C09D167/00 , C09D175/06 , C09D133/00 , G02B1/10 , B05D7/04
CPC classification number: C08J7/047 , Y10T428/24355 , Y10T428/265 , Y10T428/31504 , Y10T428/31551 , Y10T428/31786 , Y10T428/31935
Abstract: 形成防眩硬涂层用的材料，它包括(A)活性能量射束固化类型的可聚合化合物，(B)热塑性树脂，(C)对(A)和(B)来说的良溶剂，和(D)对(B)来说的不良溶剂，其中(A)对(B)以重量计的用量之比为100∶0.3到100∶50，和(C)对(D)以重量计的用量之比为99∶1到30∶70；和包括防眩硬涂层的防眩硬涂膜，所述防眩硬涂层包括通过使用上述材料形成的活性能量射束固化的树脂层并置于底材膜上。该硬涂膜不含微粒或含有降低量的微粒以提供防眩性能并显示出高度精细的防眩性能、稳定的光学性能和优良的抗划性。
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公开(公告)号：CN101680972A
公开(公告)日：2010-03-24
申请号：CN200880017900.X
申请日：2008-05-27
Applicant: 琳得科株式会社
Abstract: 本发明提供防眩性透光性硬涂膜，其在透光性基材膜的至少一面依次形成分散有微粒的含活性能量线固化型化合物的固化性组合物的固化树脂层的(A)层及(B)层，其特征在于，(A)层和(B)层的合计膜厚为1～10μm，且相对于活性能量线固化型化合物100质量份在(A)层配合平均粒径为0.5～10μm的微粒A 0.5～60质量份，在(B)层配合平均粒径小于微粒A的平均粒径的微粒B。本发明的防眩性透光性硬涂膜可以充分显示防眩性、且可以将图像上的黑色更真黑地显示。
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公开(公告)号：CN100476458C
公开(公告)日：2009-04-08
申请号：CN200580046098.3
申请日：2005-12-28
Applicant: 琳得科株式会社
Abstract: 本发明涉及一种防反射薄膜，其在基材薄膜的至少一面上，依次具有(A)含有通过活性能量线照射形成的固化树脂和2～25重量%的防带电剂的硬涂层，厚度为1～20μm；以及(B)含有通过活性能量线照射形成的固化树脂和30～80重量%的多孔性二氧化硅颗粒的低折射率层，厚度为0.05～0.3μm，且表面电阻率为5×1012Ω/□以下。具有如下特征：防反射层是1层，其能有效防止图像显示元件的表面的光反射，同时，抑制尘埃和灰尘等附着的防带电效果的持续性和耐擦伤性优异，且耐溶剂性也优异。
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公开(公告)号：CN1419137A
公开(公告)日：2003-05-21
申请号：CN02150275.7
申请日：2002-11-07
Applicant: 琳得科株式会社
CPC classification number: C08J7/045 , G02B1/105 , G02B1/111 , G02B1/14 , G02B1/16 , G02B1/18 , Y10T428/24504 , Y10T428/24802 , Y10T428/24942 , Y10T428/2495 , Y10T428/26
Abstract: 一种光学应用的膜，包括(A)含有金属氧化物和通过热或离子辐射固化的物质的硬涂层，其厚度为2－20μm，和(B)含有多孔硅石和聚硅氧烷基聚合物的低折射层，其折射率为1.30－1.45，厚度为40－200nm，层(A)和层(B)相继地层叠在基质膜的至少一个表面上。该膜具有优异的防止光反射的性能和优异的耐划伤性，并且能够以低的成本制造。
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