一种杂交仪的清洗结构
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105936873A

    公开(公告)日:2016-09-14

    申请号:CN201610415365.X

    申请日:2016-06-13

    CPC classification number: C12Q1/6837

    Abstract: 本发明公开了一种杂交仪的清洗结构,包括底座和底座上水平延伸的传送通道,所述传送通道从前到后依次包括有进料通道、清洗通道、吹风通道,所述清洗通道的左侧和吹风通道的右侧分别设置有清洗头,所述吹风通道的左侧设置有吹风头;该清洗结构针对杂交仪的工作需要,通过合理的结构改良,将按流程操作的杂交、清洗、显色、吹干操作步骤变成流水化作业,在批量芯片杂交操作时,通过流水化作业,可以持续不断加入需操作芯片,经过一段反应时间后,持续有操作完成芯片可以出结果,节省批量操作时的总体反应时间,此外通过清洗头、芯片凹槽凹形吸液位、吹风头的设计,使样本在杂交反应工作过程中能保持足够干净,保证反应效果。

    一种杂交仪的清洗结构
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105936873B

    公开(公告)日:2018-06-22

    申请号:CN201610415365.X

    申请日:2016-06-13

    Abstract: 本发明公开了一种杂交仪的清洗结构,包括底座和底座上水平延伸的传送通道,所述传送通道从前到后依次包括有进料通道、清洗通道、吹风通道,所述清洗通道的左侧和吹风通道的右侧分别设置有清洗头,所述吹风通道的左侧设置有吹风头;该清洗结构针对杂交仪的工作需要,通过合理的结构改良,将按流程操作的杂交、清洗、显色、吹干操作步骤变成流水化作业,在批量芯片杂交操作时,通过流水化作业,可以持续不断加入需操作芯片,经过一段反应时间后,持续有操作完成芯片可以出结果,节省批量操作时的总体反应时间,此外通过清洗头、芯片凹槽凹形吸液位、吹风头的设计,使样本在杂交反应工作过程中能保持足够干净,保证反应效果。

    一种杂交仪的清洗结构
    5.
    实用新型

    公开(公告)号:CN205974519U

    公开(公告)日:2017-02-22

    申请号:CN201620570785.0

    申请日:2016-06-13

    Abstract: 本实用新型公开了一种杂交仪的清洗结构,包括底座和底座上水平延伸的传送通道,所述传送通道从前到后依次包括有进料通道、清洗通道、吹风通道,所述清洗通道的左侧和吹风通道的右侧分别设置有清洗头,所述吹风通道的左侧设置有吹风头;该清洗结构针对杂交仪的工作需要,通过合理的结构改良,将按流程操作的杂交、清洗、显色、吹干操作步骤变成流水化作业,在批量芯片杂交操作时,通过流水化作业,可以持续不断加入需操作芯片,经过一段反应时间后,持续有操作完成芯片可以出结果,节省批量操作时的总体反应时间,此外通过清洗头、芯片凹槽凹形吸液位、吹风头的设计,使样本在杂交反应工作过程中能保持足够干净,保证反应效果。

Patent Agency Ranking