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1.

发明授权
废气后处理系统有权

公开(公告)号：CN114941559B

公开(公告)日：2023-12-29

申请号：CN202210139737.6

申请日：2022-02-15

Applicant: 现代英维高株式会社

Inventor： 陈东英 , 任仁赫 , 金智硕 , 玄麟 , 王泰仲

IPC: F01N3/022 , F01N3/20 , F01N11/00 , F01N13/00

Abstract: 本发明的实施例的废气后处理系统包括：排气流路，供废气移动；第一反应器，其配置于所述排气流路上；第二反应器，其设置在相较于所述第一反应器靠下游的所述排气流路上；第一还原剂喷射部，其朝向流入所述第一反应器的废气喷射还原剂；第二还原剂喷射部，其朝向流入所述第二反应器的废气喷射还原剂；第一温度传感器，其测量流入所述第一反应器的废气的温度；第二温度传感器，其测量流入所述第二反应器的废气的温度；以及控制装置，其根据所述第一温度传感器和所述第二温度传感器提供的温度信息来控制所述第一还原剂喷射部和所述第二还原剂喷射部的还原剂喷射与否和还原剂喷射量。

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