等离子光谱分析方法
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104865239B

    公开(公告)日:2019-03-22

    申请号:CN201510086901.1

    申请日:2015-02-17

    Abstract: 本发明提供等离子光谱分析方法,使得等离子发光的再现性高。作为解决手段,本发明的等离子光谱分析方法特征在于,其包括检测通过施加电压而产生的等离子的发光的检测工序和不检测等离子的发光的非检测工序,反复进行所述检测工序和所述非检测工序,在所述检测工序中,交替地进行产生等离子的等离子产生工序和不产生等离子的等离子非产生工序。由此,能够提高等离子发光的再现性。

    等离子光谱分析方法
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104865239A

    公开(公告)日:2015-08-26

    申请号:CN201510086901.1

    申请日:2015-02-17

    Abstract: 本发明提供等离子光谱分析方法,使得等离子发光的再现性高。作为解决手段,本发明的等离子光谱分析方法特征在于,其包括检测通过施加电压而产生的等离子的发光的检测工序和不检测等离子的发光的非检测工序,反复进行所述检测工序和所述非检测工序,在所述检测工序中,交替地进行产生等离子的等离子产生工序和不产生等离子的等离子非产生工序。由此,能够提高等离子发光的再现性。

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