公开(公告)号：CN101203382B

公开(公告)日：2010-04-21

申请号：CN200680022137.0

申请日：2006-06-19

Applicant: 爱克发印艺公司

Inventor： P·卡伦特 ,  H·安德里森 ,  A·威廉森 ,  C·格肯斯 ,  J·劳韦特

IPC: B41C1/10

CPC classification number: B41C1/1008 ,  B41C1/10 ,  B41C1/1025 ,  B41C1/1041 ,  B41C2210/04 ,  B41C2210/06 ,  B41C2210/08 ,  B41C2210/22 ,  B41C2210/24 ,  B41M5/465 ,  C09B23/0066 ,  C09B23/0091 ,  C09B23/083 ,  C09B23/086 ,  C09B23/10

Abstract: 一种热敏成像元件包含具有式(I)的结构的IR染料，其中R基团的至少一个为由曝露于IR辐射或热诱导化学反应转变为比所述R更强的电子给体基团的基团；或者其中R基团的至少一个为由曝露于IR辐射或热诱导化学反应转变为比所述R更强的电子受体基团的基团。所述成像元件能够在由IR辐射或热以成像方式曝光后直接以高对比度形成可见晒出图像。

公开(公告)号：CN101203382A

公开(公告)日：2008-06-18

申请号：CN200680022137.0

申请日：2006-06-19

Applicant: 爱克发印艺公司

Inventor： P·卡伦特 ,  H·安德里森 ,  A·威廉森 ,  C·格肯斯 ,  J·劳韦特

IPC: B41C1/10

CPC classification number: B41C1/1008 ,  B41C1/10 ,  B41C1/1025 ,  B41C1/1041 ,  B41C2210/04 ,  B41C2210/06 ,  B41C2210/08 ,  B41C2210/22 ,  B41C2210/24 ,  B41M5/465 ,  C09B23/0066 ,  C09B23/0091 ,  C09B23/083 ,  C09B23/086 ,  C09B23/10

Abstract: 一种热敏成像元件包含具有式(I)的结构的IR染料，其中R基团的至少一个为由曝露于IR辐射或热诱导化学反应转变为比所述R更强的电子给体基团的基团；或者其中R基团的至少一个为由曝露于IR辐射或热诱导化学反应转变为比所述R更强的电子受体基团的基团。所述成像元件能够在由IR辐射或热以成像方式曝光后直接以高对比度形成可见晒出图像。