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公开(公告)号：CN119859848A
公开(公告)日：2025-04-22
申请号：CN202510070236.0
申请日：2025-01-16
Applicant: 燕山大学
Abstract: 本发明公开了一种获得单晶铁原子级干净表面的方法，属于材料科学与表面工程技术领域，该方法，包括以下步骤：于室温、超高真空下，采用电子束对单晶铁样品进行表面处理，得到单晶铁原子级干净表面；其中，表面处理过程包括电子束切割和电子束辐照。即本发明在高真空条件下使用电子束精确处理表面氧化层，可以有效获得原子级干净的单晶铁表面，解决了现有(电)化学清洗和机械抛光难以完全去除铁表面氧化层的问题。
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