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公开(公告)号:CN109360204B
公开(公告)日:2021-07-16
申请号:CN201811434076.X
申请日:2018-11-28
Applicant: 燕山大学
IPC: G06T7/00 , G06N3/04 , G01N23/046
Abstract: 本发明公开了一种基于Faster R‑CNN的多层金属点阵结构材料内部缺陷检测方法,结合卷积神经网络,通过工业CT对多层金属点阵结构材料样件进行扫描检测,得到样件内部结构的三维立体结构,截取点阵结构横向截面的二维灰度图像,对灰度图中大量的缺陷样本进行采样学习,用学习到的缺陷特征对灰度图中的缺陷进行识别定位。经过试验验证,对多层金属点阵结构材料内部缺陷检测的平均正确率达到99.5%。
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公开(公告)号:CN116227274A
公开(公告)日:2023-06-06
申请号:CN202310042497.2
申请日:2023-01-28
Applicant: 北京星航机电装备有限公司 , 燕山大学
IPC: G06F30/23 , G06F30/27 , G06F17/15 , G06F17/16 , G16C60/00 , G06N3/0464 , G06F113/26
Abstract: 本发明涉及一种平面阵列电容传感器的敏感场优化方法及成像系统,属于电容层析成像技术领域,解决了现有技术中平面阵列电容传感器的敏感场具有软场效应、灵敏度分布均匀性差的问题。本发明的方法包括:根据预设的卷积核和移动步长对目标传感器的敏感场的待优化灵敏度矩阵进行卷积运算,以获取卷积平均值;根据获取的所述卷积平均值优化所述待优化灵敏度矩阵中的元素,以获取优化后的灵敏度矩阵;其中,所述卷积平均值为卷积运算时所述卷积核与在其所在位置覆盖的待优化灵敏度矩阵的子矩阵进行对位相乘运算获得的多个乘积值的平均值。实现了提高敏感场的灵敏度分布均匀性,弱化软场效应的效果,进而应用于成像系统中时能够提高图像重建的质量。
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公开(公告)号:CN109360204A
公开(公告)日:2019-02-19
申请号:CN201811434076.X
申请日:2018-11-28
Applicant: 燕山大学
IPC: G06T7/00 , G06N3/04 , G01N23/046
Abstract: 本发明公开了一种基于Faster R-CNN的多层金属点阵结构材料内部缺陷检测方法,结合卷积神经网络,通过工业CT对多层金属点阵结构材料样件进行扫描检测,得到样件内部结构的三维立体结构,截取点阵结构横向截面的二维灰度图像,对灰度图中大量的缺陷样本进行采样学习,用学习到的缺陷特征对灰度图中的缺陷进行识别定位。经过试验验证,对多层金属点阵结构材料内部缺陷检测的平均正确率达到99.5%。
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