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公开(公告)号:CN116553549A
公开(公告)日:2023-08-08
申请号:CN202310414919.4
申请日:2023-04-18
Applicant: 燕山大学
IPC: C01B32/90
Abstract: 本申请涉及MXenes二维材料的制备方法技术领域,更具体地说,它涉及一种利用等离子体刻蚀和修饰技术制备终端基团可控的MXenes材料的方法。可控终端基团MXenes材料的化学组成表达式为:Mn+1XnTx,其中M代表前过渡金属元素(Sc、Ti、V、Nb、Mo等),X代表C或/和N元素,Tx代表Cl/Br/I/N/S/P/Si等终端基团基团中的一种或多种,所述MXenes材料包括Ti3C2Tx、Ti2CTx、Ti3CNTx、Ti2NTx、Ti4N3Tx、Ti2(CN)Tx、(Ti,V)2CTx、(Ti,Nb)2CTx、(Ti,Nb)4C3Tx、(Ti,V,Zr,Nb,Ta)2CTx、TiVNbMoC3Tx、TiVCrMoC3Tx、Mo3C2Tx、Mo2CTx、Mo2NTx、Mo1.33CTx、(Mo,V)4C3Tx、(Mo2Sc)C2Tx、(Mo2Ti)C2Tx、Mo2Ti2C3Tx、(Mo4V)C4Tx、Mo1.33Y0.66CTx、V2CTx、V2NTx、V4C3Tx、Nb2CTx、Nb1.33CTx、Nb4C3Tx、(Nb,Zr)4C3Tx、Cr2CTx、(Cr2V)C2Tx、VCrCTx、(Cr2Ti)C2Tx、Ta4C3Tx、Ta2CTx、Ti4N3Tx、Ti2NTx、(Ta,Ti)3C2Tx、W1.33CTx、Zr3C2Tx、Zr2CTx、Hf3C2Tx、Hf2CTx、Hf2NTx。纯度与产率都大大提高,并且可精准调控表面终端基团。
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公开(公告)号:CN116553549B
公开(公告)日:2024-07-05
申请号:CN202310414919.4
申请日:2023-04-18
Applicant: 燕山大学
IPC: C01B32/90
Abstract: 本申请涉及MXenes二维材料的制备方法技术领域,更具体地说,它涉及一种利用等离子体刻蚀和修饰技术制备终端基团可控的MXenes材料的方法。可控终端基团MXenes材料的化学组成表达式为:Mn+1XnTx,其中M代表前过渡金属元素(Sc、Ti、V、Nb、Mo等),X代表C或/和N元素,Tx代表Cl/Br/I/N/S/P/Si等终端基团基团中的一种或多种,所述MXenes材料包括Ti3C2Tx、Ti2CTx、Ti3CNTx、Ti2NTx、Ti4N3Tx、Ti2(CN)Tx、(Ti,V)2CTx、(Ti,Nb)2CTx、(Ti,Nb)4C3Tx、(Ti,V,Zr,Nb,Ta)2CTx、TiVNbMoC3Tx、TiVCrMoC3Tx、Mo3C2Tx、Mo2CTx、Mo2NTx、Mo1.33CTx、(Mo,V)4C3Tx、(Mo2Sc)C2Tx、(Mo2Ti)C2Tx、Mo2Ti2C3Tx、(Mo4V)C4Tx、Mo1.33Y0.66CTx、V2CTx、V2NTx、V4C3Tx、Nb2CTx、Nb1.33CTx、Nb4C3Tx、(Nb,Zr)4C3Tx、Cr2CTx、(Cr2V)C2Tx、VCrCTx、(Cr2Ti)C2Tx、Ta4C3Tx、Ta2CTx、Ti4N3Tx、Ti2NTx、(Ta,Ti)3C2Tx、W1.33CTx、Zr3C2Tx、Zr2CTx、Hf3C2Tx、Hf2CTx、Hf2NTx。纯度与产率都大大提高,并且可精准调控表面终端基团。
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公开(公告)号:CN118108190A
公开(公告)日:2024-05-31
申请号:CN202410079696.5
申请日:2024-01-19
Applicant: 燕山大学
IPC: C01B21/076 , H01M10/42 , H01M10/05 , C01B32/914 , C01B32/907 , B82Y40/00
Abstract: 一种高效等离子剥离MXenes材料的方法及其应用,属于MXenes二维材料制备技术领域。本发明剥离方法包括:1、称取具有表面终端基团的多层MXenes材料粉末,铺散于不锈钢滚筒内,放入旋转滚筒型等离子刻蚀处理机的反应腔室中;2、通入Ar气体清洗3‑4次,更换稀有气体,在真空保护下采用等离子体处理反应,获得少层或单层MXenes材料。本发明适用于剥离不同种类终端基团的MXenes片层,条件简单可控,厚度在纳米级别且具有连续的大尺寸、较强的边缘基团保持率、水溶液中较好的分散均匀;用于构建碱金属电池负极的SEI膜呈现出机械强度高,且具有一定的弹性和良好的离子传输能力等优点,有效抑制金属枝晶的产生。
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