公开(公告)号：CN103183154A

公开(公告)日：2013-07-03

申请号：CN201210572390.0

申请日：2012-12-25

Applicant: 澁谷工业株式会社

Inventor： 中俊明 ,  西纳幸伸 ,  西富久雄 ,  鸿渡亮治 ,  桝本悟志 ,  渡辺壮马 ,  広沢祐介 ,  藤田满大

IPC: B65B55/08 ,  A61L2/08

CPC classification number: B65B55/08 ,  B67B3/003 ,  G21K5/10

Abstract: 本发明的电子束帽盖杀菌装置，能够实现电子束照射单元（8）的小型化，并且能够对帽盖（4）整体均匀地照射电子束。对在无菌室（12）内通过帽盖滑槽（6）输送的帽盖（4），由电子束照射单元（8）照射电子束来杀菌。帽盖滑槽（6）具有使帽盖（4）旋转的同时被输送的自由输送区间（6c）、及被上游侧的星形轮（24）限制的同时输送帽盖（4）的限制输送区间（6b），在限制输送区间（6b），以比上述自由输送区间（6c）中的输送速度慢的速度输送帽盖（4）。此外，在自由输送区间（6c）的电子束照射单元（8）照射电子束的方向的相反侧，设置有使照射的电子束向输送的帽盖（4）偏转的偏转单元（28）。

公开(公告)号：CN103183154B

公开(公告)日：2016-02-10

申请号：CN201210572390.0

申请日：2012-12-25

Applicant: 澁谷工业株式会社

Inventor： 中俊明 ,  西纳幸伸 ,  西富久雄 ,  鸿渡亮治 ,  桝本悟志 ,  渡辺壮马 ,  広沢祐介 ,  藤田满大

IPC: B65B55/08 ,  A61L2/08

CPC classification number: B65B55/08 ,  B67B3/003 ,  G21K5/10

Abstract: 本发明的电子束帽盖杀菌装置，能够实现电子束照射单元（8）的小型化，并且能够对帽盖（4）整体均匀地照射电子束。对在无菌室（12）内通过帽盖滑槽（6）输送的帽盖（4），由电子束照射单元（8）照射电子束来杀菌。帽盖滑槽（6）具有使帽盖（4）旋转的同时被输送的自由输送区间（6c）、及被上游侧的星形轮（24）限制的同时输送帽盖（4）的限制输送区间（6b），在限制输送区间（6b），以比上述自由输送区间（6c）中的输送速度慢的速度输送帽盖（4）。此外，在自由输送区间（6c）的电子束照射单元（8）照射电子束的方向的相反侧，设置有使照射的电子束向输送的帽盖（4）偏转的偏转单元（28）。