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公开(公告)号:CN116219384A
公开(公告)日:2023-06-06
申请号:CN202310231101.9
申请日:2023-03-10
Applicant: 湘潭大学 , 中钨稀有金属新材料(湖南)有限公司
Abstract: 本发明属于薄膜晶体管液晶显示器技术领域,本发明提供了一种Mo‑Ti‑Ta合金薄膜及其制备方法,在玻璃衬底上磁控溅射双靶或单靶,得到Mo1‑x‑yTixTay合金薄膜;其中,0.1
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公开(公告)号:CN116275047B
公开(公告)日:2025-01-28
申请号:CN202310285277.2
申请日:2023-03-22
Applicant: 中钨稀有金属新材料(湖南)有限公司
Abstract: 本发明公开了一种含钇钨棒坯及其制备方法与应用,涉及钨制品技术领域,该含钇钨棒坯由钨合金制成;所述钨合金中包括钇氧化物;所述钨合金中钇氧化物的质量百分数为0.5%~1.2%;所述含钇钨棒坯的平均晶粒度在6000个/mm2以上。本发明的钨合金通过在钨中添加钇元素制备得到,钇元素形成的氧化钇作为第二相颗粒,抑制了烧结过程中钨晶粒的长大,获得了细晶粒的合金,进一步实现了对含钇钨棒坯的平均晶粒度进行控制,从而制得了高强度的钨合金丝。
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公开(公告)号:CN116275048B
公开(公告)日:2025-01-24
申请号:CN202310285290.8
申请日:2023-03-22
Applicant: 中钨稀有金属新材料(湖南)有限公司
Abstract: 本发明公开了一种含镧钨棒坯及其制备方法与应用,涉及钨制品技术领域,该含镧钨棒坯由钨合金制成;钨合金中包括镧氧化物;钨合金中镧氧化物的质量百分数为0.05%~0.5%;含镧钨棒坯的平均晶粒度在5000个/mm2以上。本发明的钨合金通过在钨中添加镧制备得到,镧作为强化元素,一方面,镧分布在基体晶界上,有效阻止晶粒的长大;从而实现了对含镧钨棒坯的平均晶粒度进行控制,从而使最终制得的钨合金丝强度高;另一方面,镧元素颗粒在基体中以球形分布在晶界上,有效缓解了钨合金晶界微裂纹的应力集中,并起到颗粒强化作用,提高钨合金强度。
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公开(公告)号:CN117778858A
公开(公告)日:2024-03-29
申请号:CN202311857789.8
申请日:2023-12-29
Applicant: 中钨稀有金属新材料(湖南)有限公司
Abstract: 本发明公开了一种高熵合金及其制备方法,涉及高熵合金和钨合金材料领域,所述高熵合金,按摩尔量计其成分包括20~50%W、20~50%Ta、2~20%Cr、2~15%V、0~15%Ti、0~15%Mo和不可避免的杂质,杂质为C、N、H、O元素。高熵合金的制备方法,包括以下步骤:S1.将备料进行混料得到粉末原料;S2.将粉末原料经压制得到棒状坯料;S3.将棒状坯料进行预烧结;S4.将预烧结后的棒状坯料经熔炼得到铸锭S5.将铸锭取样进行固溶处理。该方法的优势在于:合金材料元素分布均匀,基本元素无偏析;元素氧化情况较轻;可以应用在大规模生产的过程中,满足工业需求。
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公开(公告)号:CN119220845B
公开(公告)日:2025-03-14
申请号:CN202411761361.8
申请日:2024-12-03
Applicant: 中钨稀有金属新材料(湖南)有限公司
Abstract: 本发明公开一种高密度细晶粒掺杂钨基材料及其制备方法,涉及掺杂钨基材料技术领域,包括以下步骤:S1.将钨粉和金属化合物粉末经湿磨、干燥,得到掺杂钨粉末料;S2.掺杂钨粉末料压制成型,得到压坯;S3.压坯经中频烧结和热等静压处理,得到高密度细晶粒掺杂钨基材料。本发明制备的高密度细晶粒掺杂钨基材料通过“先中频烧结、后热等静压”两次烧结工艺,且严格控制两次烧结的工艺,制得的高密度细晶粒掺杂钨基材料致密度高且粒度小。
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公开(公告)号:CN115992329B
公开(公告)日:2023-06-06
申请号:CN202310282006.1
申请日:2023-03-22
Applicant: 中钨稀有金属新材料(湖南)有限公司
Abstract: 本发明公开了一种钨棒坯及其应用,涉及钨制品技术领域,该钨棒坯由钨合金制成;所述钨合金中包括铈氧化物;所述钨合金中铈氧化物的质量百分数为0.2%~2.5%;所述钨棒坯的平均晶粒度在4000个/mm2以上。本发明的钨棒坯内部缺陷少,致密度高,密度达到18.5g/cm3以上;晶粒尺寸小,且无粗大晶粒,组织均性好,平均晶粒度4000以上,钨晶粒尺寸的细化有利于加工过程均匀变形。
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公开(公告)号:CN115821221B
公开(公告)日:2023-05-09
申请号:CN202310112458.5
申请日:2023-02-14
Applicant: 中钨稀有金属新材料(湖南)有限公司
Abstract: 本发明公开了一种钼靶及其制备方法与应用,涉及金属材料加工技术领域;该钼靶的致密度在99.8%以上;所述钼靶的长度在2000mm以上;所述模板的直线度在0.4mm以下;所述钼靶的平均晶粒尺寸在60μm以下;所述钼靶中钼的质量含量在99.97%以上;钼靶材内部组织无气孔、裂纹、分层、夹杂等缺陷,晶粒均匀;本发明的钼靶制备方法具有流程短、生产效率高、产品致密度高的特点,可用于制备平面显示器。
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公开(公告)号:CN119307759A
公开(公告)日:2025-01-14
申请号:CN202411806338.6
申请日:2024-12-10
Applicant: 中钨稀有金属新材料(湖南)有限公司
Abstract: 本申请属于高熵合金制备领域,具体涉及一种高熵合金及其制备方法和应用。所述制备方法,包括如下步骤:将高熵合金原料的金属圆柱熔炼,得到高熵合金;从所述金属圆柱的中心轴径向向外依次排列N层金属层,第n层金属层的熔点低于第n+1层金属层的熔点;其中,n取1、2、3、……、N‑1,N为正整数。本申请提供的高熵合金的制备方法,将金属圆柱形的高熵合金原料熔炼,使所述高熵合金原料中各金属以大体积块状(金属层)熔炼,降低所述高熵合金原料中易氧化金属的氧化;金属熔点由金属圆柱的中心轴径向向外依次降低,减少了低熔点元素在熔炼过程中的烧损。
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公开(公告)号:CN117778793A
公开(公告)日:2024-03-29
申请号:CN202311857788.3
申请日:2023-12-29
Applicant: 中钨稀有金属新材料(湖南)有限公司
Abstract: 本发明公开了一种细晶粒氧化物掺杂钨基材料的制备方法,涉及粉末冶金技术领域。本发明提供一种氧化物掺杂钨的制备方法,其包括以下步骤:S1.将钨粉和碳化物纳米粉混合、湿磨、烘干、过筛得到烘干粉末料;S2.将烘干粉末料压制成型得到压坯;S3.将压坯在氢气中进行烧结即可;所述碳化物纳米粉为ZrC纳米粉、TiC纳米粉或HfC纳米粉。该方法通过多段烧结工艺将碳化物转化为氧化物,避免了碳化物的不稳定性;在保证材料密度和收缩的前提下,抑制晶粒生长,因此氧化物掺杂钨材料具有高密度、细晶粒的特性;工艺简单,适合大规模工业化生产。
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公开(公告)号:CN116275047A
公开(公告)日:2023-06-23
申请号:CN202310285277.2
申请日:2023-03-22
Applicant: 中钨稀有金属新材料(湖南)有限公司
Abstract: 本发明公开了一种含钇钨棒坯及其制备方法与应用,涉及钨制品技术领域,该含钇钨棒坯由钨合金制成;所述钨合金中包括钇氧化物;所述钨合金中钇氧化物的质量百分数为0.5%~1.2%;所述含钇钨棒坯的平均晶粒度在6000个/mm2以上。本发明的钨合金通过在钨中添加钇元素制备得到,钇元素形成的氧化钇作为第二相颗粒,抑制了烧结过程中钨晶粒的长大,获得了细晶粒的合金,进一步实现了对含钇钨棒坯的平均晶粒度进行控制,从而制得了高强度的钨合金丝。
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