碳化硅基CVD金刚石涂层的制备方法及碳化硅基

    公开(公告)号:CN111499410A

    公开(公告)日:2020-08-07

    申请号:CN202010219800.8

    申请日:2020-03-25

    Applicant: 湘潭大学

    Abstract: 本发明实施例涉及碳化硅陶瓷技术领域,公开了一种碳化硅基CVD金刚石涂层的制备方法及碳化硅基。方法包括:S1、基体预处理:将碳化硅基体打磨,抛光,洗涤,烘干;S2、酸处理:将预处理后的碳化硅基体置于盐酸溶液中进行超声清洗,取出后用去离子水清洗干净;S3、碱处理:将酸处理后的碳化硅基体置于氢氧化钠溶液中,加热碱煮,然后用去离子水清洗并烘干;S4、硅烷偶联剂改性:将碱处理后的碳化硅基体浸渍在硅烷偶联剂溶液中24h,后烘干;S5、涂层的制备:将改性处理后的碳化硅基体置于化学气相沉积炉中,通入H2和CH4,沉积金刚石涂层。本发明实施例可以提升碳化硅基金刚石涂层的膜基结合性能。

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