一种高温溅射法制备高纯氧化铟的设备

    公开(公告)号:CN115072766A

    公开(公告)日:2022-09-20

    申请号:CN202210946406.3

    申请日:2022-08-08

    Abstract: 本发明公开一种高温溅射法制备高纯氧化铟的设备,包括顺次设置的单质铟熔化机构、液态铟雾化机构、氧化铟制备机构和氧化铟粉尘收集机构,固态单质铟放置于单质铟熔化机构的熔化室内,熔化室用于将固态单质铟熔化为液态;熔化室的底部与液态铟雾化机构的雾化管相连,雾化管上还连通有惰性气体管路;雾化管的末端伸向氧化铟制备机构中的制备室内等离子炬的内焰处,制备室还通入有高纯氧气;制备室的底部出口处设置有自动泄压阀,氧化铟粉尘收集机构与制备室的底部出口相连通。该高温溅射法制备高纯氧化铟的设备,所制备的氧化铟纯度较高且粒度分布均匀,且设备结构简洁,为后续实现工业化生产提供了方向。

    一种连续粉尘收集器
    5.
    实用新型

    公开(公告)号:CN217367543U

    公开(公告)日:2022-09-06

    申请号:CN202221248288.0

    申请日:2022-05-23

    Abstract: 本实用新型公开一种连续粉尘收集器,包括收集箱、冷却液循环装置和拉法尔管,所述冷却液循环装置设置在所述收集箱的内壁上,所述拉法尔管设置于所述收集箱内,所述拉法尔管的顶部连接收集箱的进料口,所述进料口处设置有自动压力阀,所述收集箱的底部开设有可开启或关闭的出料口。本实用新型中的连续粉尘收集器,可用于小规模工业生产或实验室使用。该连续粉尘收集器可实现自动化连续工作,大大降低设备投资和人员成本。

    一种雾化喷射装置
    6.
    实用新型

    公开(公告)号:CN217775566U

    公开(公告)日:2022-11-11

    申请号:CN202222081114.6

    申请日:2022-08-08

    Abstract: 本实用新型公开一种雾化喷射装置,包括熔化室、雾化室和气体喷嘴,熔化室的顶部设置有加料口,熔化室内放置有网格型支架,固态金属铟放置在网格型支架上,熔化室的外壁设置有加热装置,加热装置用于为熔化室进行加热;熔化室的侧壁上开设有气口,气口处可连接抽真空泵或惰性气体源或加压设备;熔化室的底部通过连接管与雾化室相连,雾化室内设置有气体喷嘴,连接管的末端与气体喷嘴的金属液入口相连,气体喷嘴与惰性气体管路相连并与出液口成30‑45°夹角。该雾化喷射装置能够有效减少杂质的带入和金属的表面钝化,避免金属熔液间的黏附现象,并有效控制铟的雾化速率,保证雾化效果。

Patent Agency Ranking