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公开(公告)号：CN118795728A
公开(公告)日：2024-10-18
申请号：CN202410839894.7
申请日：2024-06-26
Applicant: 湖南大学 , 湖大粤港澳大湾区创新研究院(广州增城)
Abstract: 本发明公开了一种近零粘附光刻胶及干式光刻方法，属于微纳制造领域；所述近零粘附光刻胶包括：40‑99%光刻胶，0‑60%溶剂，0.4‑12%两亲性分子助剂；所述方法包括：在衬底上旋涂光刻胶前体溶液退火得到光刻胶薄膜，通过曝光、显影完成光刻胶结构的制备；光刻胶作为掩模进行金属或氧化物镀膜或者刻蚀；将胶带共形贴附在光刻胶的上表面，剥离光刻胶，剥离过程仅需使用胶带机械剥离，从而避免任何有机溶剂和有毒剥离剂的使用；得到硬质晶圆衬底上的金属或氧化物微纳结构或刻蚀后的微纳结构。用近零粘附光刻胶的可转移特性，该方法可以拓展到曲面衬底和柔性聚合物衬底的干式剥离光刻工艺，利于拓展光刻技术在柔性电子、生物电子、人机界面等领域的应用。
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公开(公告)号：CN116883588A
公开(公告)日：2023-10-13
申请号：CN202310720747.3
申请日：2023-06-16
Applicant: 湖南大学
Abstract: 本发明提供一种大场景下的三维点云快速稠密重建方法及系统，该方法包括如下步骤：获取相机拍摄的待测场景的连续图像，并采用冗余图像筛查方法对连续图像进行关键帧提取，获得关键帧图像序列，针对关键帧图像序列进行稀疏重建，并获取每张图像的相机位姿、2D关键点、3D稀疏点对跟踪图像进行视角选择，根据点云稀疏重建生成的稀疏点云和视角选择的结果使用基于光度特征和平面特征的方法估计每张图像的参数信息，然后使用快速的融合方法对点云进行稠密重建，最后再对稠密点云进行尺度恢复和坐标转换。本发明提高了大场景环境下稠密重建的速度和质量，增加了小目标物体表面的细节特征，为大场景环境的准确感知提供了有效的技术支持。
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公开(公告)号：CN119002184A
公开(公告)日：2024-11-22
申请号：CN202410839897.0
申请日：2024-06-26
Applicant: 湖南大学 , 湖大粤港澳大湾区创新研究院(广州增城)
Abstract: 本发明公开了一种大面积纳米结构紫外接触式光刻方法，涉及微纳制造领域；该方法通过使用近零粘附的可转印光刻胶作为中间介质薄膜，确保了光刻胶与光刻掩模版之间的零间隙柔性软接触，实现了光刻掩模版结构的1:1高保真复制，进而实现了大面积纳米结构的低成本光刻制造。本发明实现了高效、低成本的完美共形接触式光刻，能够用于构建大面积、亚微米分辨率的无拼接结构；可实现对溶剂不兼容衬底、曲面不规则衬底及柔性衬底的光刻制造，并提高光刻掩模版的使用寿命。本发明有效克服了传统接触式光刻所面临的诸多挑战，有望显著推动光刻技术及微纳米制造技术的发展。
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公开(公告)号：CN118550153A
公开(公告)日：2024-08-27
申请号：CN202410839892.8
申请日：2024-06-26
Applicant: 湖南大学 , 湖大粤港澳大湾区创新研究院(广州增城)
Abstract: 本发明公开了一种柔性光刻掩模版高效批量化制备工艺，属于微纳制造领域。包括：硅衬底清洗；得到硅衬底上均匀分布的无缺陷低界面黏附可转移光刻胶膜。去除胶层内的溶剂并提高光刻胶膜的机械擦伤能力。转移，将光刻胶转移到柔性印章上。将硬质母掩模版图案等比例转移到光刻胶上。将硬质母掩模版图案等比例复制到光刻胶上。金属沉积；通过沉积一层不透光金属，最终实现大面积高分辨柔性掩模版的高效、低成本制备。用胶带将结构外的金属和光刻胶缓慢剥离，得到大面积高分辨柔性掩模版。该发明不仅为传统柔性掩模版加工制造提供了更可靠和高效的工艺，使得制造过程更加稳定和高效，同时也能满足大幅面的制造需求。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118630109A
公开(公告)日：2024-09-10
申请号：CN202410839895.1
申请日：2024-06-26
Applicant: 湖南大学 , 湖大粤港澳大湾区创新研究院(广州增城)
Abstract: 本发明公开了一种基于紫外固化薄膜的金属转移工艺及其应用。提供硬质硅基晶圆衬底，在光刻胶薄膜上曝光出设计的结构；在光刻胶显影液中进行显影，用氮气吹干，得到设计的光刻胶薄膜结构；在有设计结构的光刻胶薄膜结构表面进行金属化；在去除光刻胶溶液中浸泡，得到金属结构；将紫外固化树脂旋涂或滴涂在设计的金属结构上；使用LED紫外灯辐照金属结构上的液态紫外固化树脂原位固化，在液态的紫外固化树脂固化后，得到干净的紫外固化薄膜；将紫外固化薄膜进行剥离，得到嵌入式金属结构的紫外固化薄膜柔性衬底。本发明增强了金属结构与柔性衬底的界面稳定性，解决了金属结构与柔性衬底机械性能不匹配的问题以及转移过程中化学试剂的污染问题。
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公开(公告)号：CN119270396A
公开(公告)日：2025-01-07
申请号：CN202411486861.5
申请日：2024-10-23
Applicant: 湖南大学 , 湖大粤港澳大湾区创新研究院(广州增城)
Abstract: 本发明公开了一种基于转印工艺的大面积跨尺度超透镜快速制备方法，涉及微纳制造领域；包括衬底清洗、一次涂胶、一次前烘、一次曝光、二次涂胶、二次前烘、转移、二次曝光、释放、显影、深硅刻蚀以及干法去胶；本发明通过可转移可释放的光刻胶近场接触式光刻技术、深硅刻蚀工艺、干法去胶工艺等，实现大面积跨尺度超透镜快速低成本制备。本方法能够借助可转移的光刻胶实现完美的接触式曝光，可轻易达到近红外超透镜的结构精度。该发明不仅利用力学性能优异的可转移光刻胶保护力学性能低的光刻胶，实现大面积双层光刻胶完美无损剥离及释放的关键问题，还为大面积跨尺度超透镜制备提供了一个效率高、成本低、简单、可快速复制的方案。
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公开(公告)号：CN114569588B
公开(公告)日：2023-09-26
申请号：CN202210143722.7
申请日：2022-02-16
Applicant: 湖南大学
IPC: A61K31/155 , A61K38/14 , A61P31/04 , C07C257/18 , C07C279/26 , C07C279/12
Abstract: 本发明公开了一种洗必泰及其类似物、万古霉素及其类似物、以及洗必泰‑万古霉素协同靶向抗菌应用。本发明结合增敏递送和化学衍生两种方法，洗必泰及其类似物与万古霉素及其类似物产生了脂多糖靶向的协同效应，从而获得了优异的抗菌效果。
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公开(公告)号：CN118818894A
公开(公告)日：2024-10-22
申请号：CN202410839896.6
申请日：2024-06-26
Applicant: 湖南大学 , 湖大粤港澳大湾区创新研究院(广州增城)
IPC: G03F7/00 , H01L21/027 , C09J175/14 , C09J171/02
Abstract: 本发明公开了一种高粘附比的转印印章及干式转印方法，属于微纳制造领域；在衬底上制备无粘附层金属微纳结构；衬底疏水修饰，在衬底上旋涂薄膜前体溶液退火得到纳米薄膜；将可变粘附的转印印章共形贴附在薄膜的上表面，冷却至室温后剥离薄膜，实现薄膜与硅基晶圆衬底的分离；将可变粘附的转印印章和薄膜共形贴附于受体衬底上；再次加热使得印章变软并匀速剥离印章，将薄膜释放在受体衬底上，完成薄膜的转印，去除薄膜，得到受体衬底上的金属微纳结构。光固化热响应印章采用可光固化的复合相变材料进行制备，在低温热刺激下展现出高可切换粘附比和高刚度力学性能切换。本发明方法可用于在曲面及柔性衬底上制造从纳米级到晶圆级的功能元件。
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公开(公告)号：CN114569588A
公开(公告)日：2022-06-03
申请号：CN202210143722.7
申请日：2022-02-16
Applicant: 湖南大学
IPC: A61K31/155 , A61K38/14 , A61P31/04 , C07C257/18 , C07C279/26 , C07C279/12
Abstract: 本发明公开了一种洗必泰及其类似物、万古霉素及其类似物、以及洗必泰‑万古霉素协同靶向抗菌应用。本发明结合增敏递送和化学衍生两种方法，洗必泰及其类似物与万古霉素及其类似物产生了脂多糖靶向的协同效应，从而获得了优异的抗菌效果。
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