一种光刻机的清洁方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117826541A

    公开(公告)日:2024-04-05

    申请号:CN202410045349.0

    申请日:2024-01-11

    Abstract: 本公开实施例提供了一种光刻机的清洁方法,光刻机包括载台、设置于载台上方的物镜以及用于提供曝光光束的曝光光源,载台上附着有污染物;清洁方法包括:提供控片,将控片置于载台上;对控片执行曝光工艺,曝光光源通过物镜向控片辐射曝光光束以加热控片,控片将热量传递至附着在载台上的污染物,以降低污染物与载台之间的粘附性。

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