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公开(公告)号：CN113946005B
公开(公告)日：2023-09-15
申请号：CN202111309774.9
申请日：2021-11-04
Applicant: 温州大学
Abstract: 本发明提供了一种宽带高激光损伤阈值色散镜结构，由下到上依次包括基底、啁啾层和电场调制层；基底为色散镜的衬底材料；啁啾层为膜层厚度啁啾渐变的多层介质膜层；电场调制层为膜层厚度周期性变化并重复排列的多层介质膜层。本发明所述的宽带高激光损伤阈值色散镜结构底部为传统的啁啾结构，顶部创造性的引入了电场调制层结构；该新型色散镜结构中电场调制层为膜层厚度周期性变化并重复排列的多层介质膜层，该结构使得各波长分量在电场调制层内的驻波场峰值相互错开，使得最大的峰值电场强度大大降低。通过同时调制色散镜内所有波长的驻波场分布而实现总的峰值电场强度降低，最终可以有效提升激光损伤阈值。
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公开(公告)号：CN107234342B
公开(公告)日：2023-04-11
申请号：CN201710568152.5
申请日：2017-07-12
Applicant: 温州大学激光与光电智能制造研究院
IPC: B23K26/342 , B23K26/14
Abstract: 本发明提供了一种激光诱导等离子体直写沉积装置，包括直写沉积加工头、基片、工作台、激光发射模块、吹气模块和多自由度运动模块，基片设置在工作台上，激光发射模块用于发射聚焦激光束；吹气模块用于向直写沉积加工头内吹气；多自由度运动模块用于提供二维或三维运动；直写沉积加工头呈筒形中空结构；内部空腔为真空腔，第一端部上设置有靶材，第二端部设置有激光入射窗；侧壁上设置有气体吹入口，另一侧设置有锥形喷嘴。本发明通过滤网、电/磁场等实现对等离子体的筛选，并通过高温锥形喷嘴实现等离子体的聚焦喷射，结合直写喷嘴与基板的相对运动，可实现图形化薄膜涂层的直接制备。本发明还同时提供给了一种激光诱导等离子体直写沉积方法。
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公开(公告)号：CN115466950A
公开(公告)日：2022-12-13
申请号：CN202210962938.6
申请日：2022-08-11
Applicant: 温州大学
Abstract: 本发明公开了一种在基体表面形成耐热腐蚀性涂层的方法，包括：利用激光熔覆工艺在基体表面制备MCrAlY熔覆涂层；再利用脉冲电子束HCPEB工艺对所述MCrAlY熔覆涂层进行强化处理，以修复MCrAlY熔覆涂层表面空洞和枝晶偏析的冶金缺陷，在所述涂层表面形成粒径小于200nm的超细晶结构，得到耐热腐蚀性涂层。本发明通过脉冲电子束技术改善在基体表面的激光熔覆涂层存在的耐热腐蚀性能差的问题，并利用脉冲电子束HCPEB低能量、超短脉宽、可控轰击次数等技术特点，控制熔覆层表层形成一定尺寸的超细晶结构、并控制成分均匀化，从而有效提高熔覆涂层在高温腐蚀环境下的防护性能。
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公开(公告)号：CN115011787A
公开(公告)日：2022-09-06
申请号：CN202210690003.7
申请日：2022-06-17
IPC: C21D10/00
Abstract: 本发明公开一种激光喷丸系统，包括激光喷丸装置、定位夹紧装置，所述定位夹紧装置包括圆形底座301、夹紧结构3、辅助支撑结构4，所述夹紧结构3包括轴承内圈外表面夹紧部、轴承内圈内表面夹紧部，所述底座301上均布开设有至少三个滑槽，至少三个所述滑槽于圆心处连通，所述滑槽内设置有轴承内圈内表面夹紧部，任意两个所述滑槽之间的底座上设置有所述辅助支撑结构4；所述轴承内圈外表面夹紧部位于所述滑槽内，且在靠近所述底座301的圆心处与轴承内圈内表面夹紧部相对设置。通过定位夹紧装置夹紧轴承内圈，含有定位夹紧装置的激光喷丸系统能够对轴承内圈的内侧进行全部支撑，减小激光喷丸过程轴承内圈的圆度误差。
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公开(公告)号：CN114919250A
公开(公告)日：2022-08-19
申请号：CN202210526427.X
申请日：2022-05-13
Applicant: 温州大学
Abstract: 本发明提供了一种基于多角度可调谐滤光薄膜的暗场成像载玻片，包括基底和多层介质薄膜，多层介质薄膜由高、低两种折射率不同的材料交替堆叠而成，基础膜系为S/[a1(HL)]m1[a2(HL)]m2[a3(HL)]m3[a4(HL)]m40.5H，S表示基底，H和L分别代表光学厚度为λ/4的高低折射率材料，λ为薄膜的工作波段的长波部分的中心波长，a1、a2、a3、a4为递增的数列，范围在0.5‑1.2之间，m1、m2、m3、m4为周期数，范围为在4‑16之间的整数。本发明可实现对入射光的角度调制，得到大出射角度的照明光锥，实现大数值孔径、高对比度的暗场成像。本发明在可应用于明场光学显微镜产生暗场成像图，为实现微型化、高分辨暗场成像显微镜奠定了基础，具有普适性和应用价值。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111941847B
公开(公告)日：2022-03-08
申请号：CN202010785926.1
申请日：2020-08-06
Applicant: 温州大学平阳智能制造研究院
IPC: B29C64/264 , B29C64/106 , B33Y30/00
Abstract: 本发明提供了一种综合散热的LCD光固化3D打印光投影装置，包括自下而上依次设置的光源、聚光罩、平面菲涅尔透镜、中空双层综合散热金属框架和LCD屏幕；在聚光罩壳体外表面开设有用于放置冷却管道的螺旋凹槽。中空双层综合散热金属框架两个延伸部下方的盒体上设置有通风口，通风口各在外部连接有散热单元。中空双层综合散热金属框架的盒体外侧壁表面上，设置有半导体散热片。本发明通过在整体光‑机结构中设置风冷、水冷和半导体散热三种主动散热机构，三者的有机结合和相互协调工作，可大幅度降低发热源产生的热量，提高了屏幕的使用寿命，同时光投影装置在打印制造过程中能够保持稳定的散热条件，维持稳定的结构温度，直接提升设备整体可靠性。
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公开(公告)号：CN112317764A
公开(公告)日：2021-02-05
申请号：CN202011103653.4
申请日：2020-10-15
Applicant: 温州大学
Abstract: 本发明涉及增材制造技术领域，公开了一种激光增材制造装备，包括机架，机架上从上至下依次设置有第一形状轨道、激光熔覆座和第二形状轨道，激光熔覆座上安装有激光熔覆机构，第一形状轨道和第二形状轨道的形状不同，激光熔覆座上安装有用于切换连接在第一形状轨道和第二形状轨道的切换连接机构。本发明通过科学地设置切换连接机构，可将不同轨道进行开拓性的整合，实现绝大部分零部件无死角地进行激光熔覆，从而解决现有技术中存在激光增材制造装备灵活性差的问题，使得整个装备更加灵活，而且也使得装备适应性变广，工作效率显著提升。
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公开(公告)号：CN108405864B
公开(公告)日：2020-12-01
申请号：CN201810414290.2
申请日：2018-05-03
Applicant: 温州大学激光与光电智能制造研究院
Abstract: 本发明提供了一种基于感应熔炼的直写式金属三维打印成型方法，包括：准备三维打印成型零件的CAD数据文件、成型基板、金属粉末和直写式感应熔炼成型喷嘴；将每层切片的封闭轮廓图形进行内部矢量线填充；控制打开当前切片对应的喷射阀门，使得金属粉末经由内部送粉通道流出，之后经过感应线圈的快速加热熔化，形成金属液滴随后近乎垂直撞击于成型基板的当前成型表面；沿着内部填充矢量线段的轨迹使直写式感应熔炼成型喷嘴与成型基板发生相对位移，形成与内部填充矢量线段一致的连续成型线段，逐层叠加完成成型。本发明利用喷嘴与成型基板的相对运动来成型，成型尺寸不受限制，可实现大尺寸零件的精密成型，灵活方便，自由度大。
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公开(公告)号：CN111941847A
公开(公告)日：2020-11-17
申请号：CN202010785926.1
申请日：2020-08-06
Applicant: 温州大学平阳智能制造研究院
IPC: B29C64/264 , B29C64/106 , B33Y30/00
Abstract: 本发明提供了一种综合散热的LCD光固化3D打印光投影装置，包括自下而上依次设置的光源、聚光罩、平面菲涅尔透镜、中空双层综合散热金属框架和LCD屏幕；在聚光罩壳体外表面开设有用于放置冷却管道的螺旋凹槽。中空双层综合散热金属框架两个延伸部下方的盒体上设置有通风口，通风口各在外部连接有散热单元。中空双层综合散热金属框架的盒体外侧壁表面上，设置有半导体散热片。本发明通过在整体光-机结构中设置风冷、水冷和半导体散热三种主动散热机构，三者的有机结合和相互协调工作，可大幅度降低发热源产生的热量，提高了屏幕的使用寿命，同时光投影装置在打印制造过程中能够保持稳定的散热条件，维持稳定的结构温度，直接提升设备整体可靠性。
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公开(公告)号：CN111880261A
公开(公告)日：2020-11-03
申请号：CN202010781050.3
申请日：2020-08-06
Applicant: 温州大学平阳智能制造研究院
IPC: G02B6/122 , G02B6/136 , B23K26/362
Abstract: 本发明提供了一种基于激光刻蚀石墨烯薄膜堆叠的光子晶体，包括若干个堆叠在一起的双层晶体结构，双层晶体结构包括玻璃基片和石墨烯薄膜，石墨烯薄膜上与环形玻璃基片中空部分对应的区域设置有周期性微结构图形，使得该双层晶体结构形成了一石墨烯薄膜层和一空气层，改变玻璃基片的厚度即可调节空气层的厚度；石墨烯薄膜上的周期性微结构图形采用激光刻蚀方法根据设计图形制作。本发明还同时提供了一种基于激光刻蚀石墨烯薄膜堆叠的光子晶体的加工方法。本发明能够快速制备光子晶体，工艺简单易于实现，设计的微周期结构的尺寸、刻蚀图形等参数均能快速调节，最终实现对不同频率的光在光子晶体中传播的控制，具有极好的设计灵活性和参数可调性。
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