一种制备均匀大面积单一取向性的ZnO六角微盘的方法

    公开(公告)号:CN105369341A

    公开(公告)日:2016-03-02

    申请号:CN201510928470.9

    申请日:2015-12-15

    CPC classification number: C30B7/00 C30B29/16 C30B29/60

    Abstract: 本发明公开了一种制备均匀大面积单一取向性ZnO六角微盘的方法,在常压下,用Zn微滴液相成核生长方法制备ZnO微盘,制备过程中无需添加任何其他催化剂,ZnO微盘作为增益介质和激光谐振腔,构建微腔激光器,实现低阈值紫外光受激辐射。本发明在常压下直接在大气中生长,无需对真空度和反应气体及载气精确控制,无需添加任何其他催化剂,所用的设备和方法简单可行;制备的ZnO微盘尺寸分散小,结晶质量高,高度的取向性生长,微盘各晶面具有原子尺度上的平整度,可显著降低光散射损失,生长的微盘尺寸较大,有利于提高Q因子,降低激射阈值;克服了现有技术中微腔的微加工方法较复杂,使用设备昂贵,刻蚀表面较粗糙,光散射损失严重,不利于降低激射阈值的问题。

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