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公开(公告)号：CN113118938A
公开(公告)日：2021-07-16
申请号：CN201911416208.0
申请日：2019-12-31
Applicant: 浙江芯晖装备技术有限公司
Abstract: 本发明涉及抛光技术领域，公开一种抛光设备。所述抛光设备包括安装台、传送机构和抛光机构。安装台上沿第一水平方向排列设置有多个独立的抛光区。传送机构沿第一水平方向可移动地设置在安装台上，以传送晶圆。每个抛光区内均设置有抛光机构，抛光机构包括抛光盘和抛光头，抛光盘和抛光头均可转动地设置在安装台上，抛光头沿第二水平方向可移动且沿竖直方向可升降地设置在安装台上，以吸附传送机构上的晶圆，并将晶圆移动至抛光盘的上方，抛光盘能够与抛光头相配合对晶圆进行抛光。本发明提供的抛光设备，能够有效提高抛光良率和抛光效率，同时适用范围广，能够满足多种抛光精度的要求。
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公开(公告)号：CN111085931A
公开(公告)日：2020-05-01
申请号：CN201911410317.1
申请日：2019-12-31
Applicant: 浙江芯晖装备技术有限公司
Abstract: 本发明涉及抛光技术领域，公开一种抛光头驱动装置及抛光设备。抛光头驱动装置包括安装板、升降机构和动力机构。升降机构设置在安装板上，升降机构包括升降电机、丝杆、丝杆螺母和升降板，升降电机能够驱动丝杆转动以使丝杆螺母带动升降板升降。动力机构设置在升降板上，动力机构包括主轴、转动电机和分气块，转动电机位于主轴的一侧且能够驱动主轴转动，主轴的一端被配置为与抛光头组件固定连接，另一端与分气块固定连接，分气块通过主轴与抛光头组件连通，以使抛光头组件能够吸附硅片以及调节硅片的抛光压力。该抛光头驱动装置不仅能精确控制升降速度和转速，还能够有效避免硅片变形和碎裂现象的发生，且结构简单紧凑，布局合理。
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公开(公告)号：CN111015502A
公开(公告)日：2020-04-17
申请号：CN201911419022.0
申请日：2019-12-31
Applicant: 浙江芯晖装备技术有限公司
IPC: B24B37/27
Abstract: 本发明涉及硅片研磨定位技术领域，公开了一种定位装置，包括放置台、定位组件和驱动件：放置台用于承载硅片，放置台上设置有至少三个滑动槽，所有的滑动槽所在的直线交于一点；定位组件与滑动槽一一对应设置，且能够沿滑动槽的长度方向移动，定位组件包括定位件，定位件露于滑动槽设置；驱动件能够驱使定位件相互靠拢，以夹持定位硅片；还能够驱使定位件相互远离，以解除对硅片的夹持。由于所有的滑动槽所在的直线相交于一点，可以使硅片的中心与滑动槽所在的直线的交点重合。每次放置于放置台上的硅片的中心均可以被调节至与滑动槽所在的直线的交点重合，完成对硅片的定位，在对硅片研磨时，可以保证研磨比较均匀，保证硅片研磨的合格率。
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公开(公告)号：CN111137665B
公开(公告)日：2024-10-18
申请号：CN202010013675.5
申请日：2020-01-07
Applicant: 浙江芯晖装备技术有限公司
IPC: B65G47/74
Abstract: 本发明提供了一种用于卸载和传送硅片的装置，包括电机、支撑架、回转轴、套管、上封盖、下封盖和回转基座，回转基座上设有两组治具，电机固定在支撑架上，下封盖卡嵌在卡孔内，套管下端与下封盖嵌套连接，套管上端与上封盖嵌套连接，回转轴穿设在套筒内，回转轴通过轴承与套筒内壁转动连接，回转轴下端穿过卡板且与电机通过同步带传动组动力连接，回转轴上端固定连接有传动盖板，传动盖板与回转基座固定连接，治具包括固定在回转基座上的气缸、定位销、法兰盘、限位销、上防水罩和下防水罩，回转基座上设有将硅片从治具上冲落的喷水管。通过气缸和喷水管，将治具上的硅片吹落，回转基座可通过电机转动，使回转基座在缓冲、卸载工位之间摆动。
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公开(公告)号：CN111137665A
公开(公告)日：2020-05-12
申请号：CN202010013675.5
申请日：2020-01-07
Applicant: 浙江芯晖装备技术有限公司
IPC: B65G47/74
Abstract: 本发明提供了一种用于卸载和传送硅片的装置，包括电机、支撑架、回转轴、套管、上封盖、下封盖和回转基座，回转基座上设有两组治具，电机固定在支撑架上，下封盖卡嵌在卡孔内，套管下端与下封盖嵌套连接，套管上端与上封盖嵌套连接，回转轴穿设在套筒内，回转轴通过轴承与套筒内壁转动连接，回转轴下端穿过卡板且与电机通过同步带传动组动力连接，回转轴上端固定连接有传动盖板，传动盖板与回转基座固定连接，治具包括固定在回转基座上的气缸、定位销、法兰盘、限位销、上防水罩和下防水罩，回转基座上设有将硅片从治具上冲落的喷水管。通过气缸和喷水管，将治具上的硅片吹落，回转基座可通过电机转动，使回转基座在缓冲、卸载工位之间摆动。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111070079A
公开(公告)日：2020-04-28
申请号：CN201911410553.3
申请日：2019-12-31
Applicant: 浙江芯晖装备技术有限公司
Abstract: 本发明提供了一种抛光盘的驱动装置，其包括固定盘、旋转机构、机架和平移机构，固定盘内设有冷却流道，固定盘上连接有抛光盘；旋转机构包括主轴和用于驱动主轴转动的第一驱动组件，固定盘连接于主轴的上端，主轴内穿设有与冷却流道相连通的冷却管，主轴的转动能带动固定盘和抛光盘同步转动；机架上设有支撑架，第一驱动组件连接于机架上；平移机构包括移动板和第二驱动组件，移动板套设于主轴的外部并与支撑架相接，第二驱动组件与移动板相接并能驱动移动板水平往复移动，移动板的移动能带动机架同步移动。本发明的抛光盘的驱动装置，既能对抛光盘冷却降温，又能充分利用抛光垫使用面积，避免同一位置抛光造成抛光垫过度损耗。
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公开(公告)号：CN110962022A
公开(公告)日：2020-04-07
申请号：CN201911422735.2
申请日：2019-12-31
Applicant: 浙江芯晖装备技术有限公司
IPC: B24B27/00 , B24B29/02 , B24B41/06 , B24B53/007 , B24B41/00
Abstract: 本发明涉及抛光技术领域，尤其涉及一种抛光设备。该抛光设备，包括上下料工位、转接工位和抛光清洗工位，上下料工位上设置有上料盒和下料盒；转接工位上设置有第一机械手、定位机构和清洗干燥机构，第一机械手能够将上料盒内的硅片取出并转移至定位机构进行定位，且能够将清洗干燥机构上的硅片转移至下料盒内；抛光清洗工位上设置有第二机械手、抛光装置和清洗装置，第二机械手能够将定位机构上已定位的硅片转移至抛光装置进行抛光，清洗装置能够对抛光后的硅片进行清洗，将抛光作业和清洗作业置于同一工位，能够提高良品率；第二机械手能够将抛光装置上的硅片转移至清洗干燥机构进行清洗干燥，实现硅片的干进干出，提高作业效率。
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公开(公告)号：CN111070098B
公开(公告)日：2025-04-29
申请号：CN201911404893.5
申请日：2019-12-31
Applicant: 浙江芯晖装备技术有限公司
IPC: B24B53/017 , B08B1/34 , B08B1/12 , B08B3/02 , B08B13/00
Abstract: 本发明为一种抛光头清洗装置，包括，基板，能固定连接于机体上；毛刷结构，包括基板上方能拆卸地设置的第一毛刷部和第二毛刷部，第一毛刷部和第二毛刷部能升降且能旋转，第一毛刷部用于刷洗抛光头的侧面，第二毛刷部用于刷洗抛光头的加工端面；旋转驱动结构，包括第一旋转部和第二旋转部；升降结构，连接于基板的底部且向下延伸设置，升降结构用于驱动毛刷结构和旋转驱动结构沿竖直方向升降；喷水结构，用于喷水冲洗抛光头；控制部，旋转驱动结构、升降结构和喷水结构均与控制部电连接。该装置可以有效清洗抛光头，防止在吸取硅片的时候抛光头上有异物对硅片造成划伤或者异物掉落在硅片上，保证硅片的性能。
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公开(公告)号：CN111070084A
公开(公告)日：2020-04-28
申请号：CN201911410572.6
申请日：2019-12-31
Applicant: 浙江芯晖装备技术有限公司
IPC: B24B41/047 , B24B37/04 , B24B55/00
Abstract: 本发明提供了一种抛光转盘驱动装置，其包括驱动机构、转盘和机架，其中，驱动机构包括主轴和与主轴的下端相接的驱动电机，驱动电机能驱动主轴转动；转盘连接于主轴的上端并能与主轴同步转动，转盘的底面沿周向连接有至少四个间隔设置的滑块；机架上连接有支撑环板，支撑环板上设有呈圆环形的轨道，滑块连接于轨道上并能沿轨道滑动。本发明的抛光转盘驱动装置，通过滑块与轨道的配合，既能使得转盘顺畅的转动，又能确保转盘在转动过程中的稳定性，从而保证了随转盘同步转动的抛光头的稳定性，进而使得硅片的抛光厚度能均匀，良品率更高。
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公开(公告)号：CN111070083A
公开(公告)日：2020-04-28
申请号：CN201911404911.X
申请日：2019-12-31
Applicant: 浙江芯晖装备技术有限公司
Abstract: 本发明为一种抛光垫清洗装置，包括毛刷结构，毛刷结构包括能周向旋转的盘面毛刷，盘面毛刷用于抵靠接触且旋转清洁抛光垫；盘面毛刷安装于毛刷臂上，毛刷臂的一端连接升降部上，升降部上设置能驱动毛刷臂在水平方向上摆动和能驱动盘面毛刷周向旋转的旋转驱动部；盘面毛刷的一侧设置压力清洗结构，压力清洗结构用于修复抛光垫；抛光垫清洗装置还包括控制部，控制部用于盘面毛刷旋转状态、毛刷臂旋转状态、升降部升降状态和压力清洗结构清洗状态的控制。该装置能利用盘面毛刷冲洗清洁、保湿抛光垫，利用压力清洗结构修整抛光垫，防止抛光垫脏污和磨损造成新硅片的损伤。
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