一种三维并行共聚焦荧光显微成像系统及显微成像方法

    公开(公告)号:CN119781150A

    公开(公告)日:2025-04-08

    申请号:CN202510045984.3

    申请日:2025-01-13

    Abstract: 本发明公开了一种三维并行共聚焦荧光显微成像系统及显微成像方法,包括:光源模块发射消相干、均匀光强的单色激光经过多焦均匀平场照明模块,点阵列照明光通过二向色镜将点阵列照明光输入所述的照明扫描对光束进行扫描,进入像差矫正模块进行光学像差矫正,之后进入显微照明模块到达待观测样品,待观测样品产生的荧光作为点阵列成像光沿着照明光路反向传播,经过像差矫正模块并经过所述的照明扫描模块被解扫描,再通过所述的二向色镜透射,输入所述的光子重组模块,生成高分辨率的点阵列成像光,生成的高分辨率的点阵列成像光经过所述的成像扫描模块到达所述的成像模块。可以同时实现高速成像探测以及对像差的矫正以实现对分辨率和信噪比的提高。

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