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公开(公告)号：CN116379974A
公开(公告)日：2023-07-04
申请号：CN202310177455.X
申请日：2023-02-28
Applicant: 浙江大学 , 杭州利珀科技有限公司
Abstract: 本发明公开了一种多波长光源检测光学元件表面特性装置及方法，包括多波长光源模块、高精度运动平台、安装在高精度运动平台上的用于夹持待测光学元件的样品台、散射探测模块、与散射探测模块连接的数据分析处理模块以及用于控制高精度运动平台运动的控制模块；多波长光源模块由多台激光器和对应的多台光功率计组成；光功率计用于实时检测激光器的出射功率，激光器出射的激光光线透射经过分光镜后，再通过对应的二向色镜后同轴照射在待测光学元件表面形成散射光，散射光经散射探测模块收集并通过数据分析处理模块进行分析。利用本发明，可实现光学元件表面散射信号检测，建立与光学元件表面粗糙度检测、损伤阈值的关系。
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公开(公告)号：CN104849499A
公开(公告)日：2015-08-19
申请号：CN201510228696.8
申请日：2015-05-07
Applicant: 浙江大学
IPC: G01Q60/24
Abstract: 本发明公开了一种快速扫描原子力显微检测方法及系统。它包括快速扫描原子力显微检测主体探头、光电流/电压转换放大器、Z向负反馈控制模块、X方向快速扫描控制模块、Y方向快速扫描控制模块、计算机；光电流/电压转换放大器、Z向负反馈控制模块、X方向快速扫描控制模块、Y方向快速扫描控制模块分别与快速扫描原子力显微检测主体探头、计算机连接。快速扫描原子力显微检测主体探头的X方向快速片状扫描器独立实现微探针的X方向快速扫描，Y方向快速扫描器独立实现样品的Y方向快速扫描，且Z方向反馈与Y方向扫描正交独立。本发明克服了常规型AFM的局限性，可实现微纳米样品的高速度、高精度、无畸变的快速扫描与原子力显微检测成像。
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公开(公告)号：CN102730624B
公开(公告)日：2014-11-12
申请号：CN201210209387.2
申请日：2012-06-25
Applicant: 浙江大学
Abstract: 本发明公开了一种实时颜色动态调控微器件及其制备和调控方法。利用同步辐射光源在铂层上制备高深宽比的PMMA二维微结构阵列，利用直流磁控溅射在微结构内部沉积锆钛酸铅薄膜层，在微结构的顶部沉积高反射率纳米金属铬层，形成有高度差的上下两层反射层，通过改变铂、铬之间的电压，实时控制两反射层之间的高度差，使器件在自然光条件下呈现出不同的颜色，实现颜色的动态调控。本发明突破了传统微结构阵列深度方向尺寸固定的限制，利用压电薄膜材料的逆压电效应，只需改变外部电压，即可实时控制微结构的深度变化，从而实现无颜料多种色彩的实时动态调控，符合绿色环保的主题，可望在光学、材料学及印刷业、建筑业等领域获得广泛应用。
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公开(公告)号：CN117723558A
公开(公告)日：2024-03-19
申请号：CN202311544747.9
申请日：2023-11-20
Applicant: 浙江大学 , 杭州利珀科技有限公司
IPC: G01N21/95 , G01N21/958 , G01N21/01 , G01M11/02
Abstract: 本发明公开了一种用于大口径光学元件检测的新型扫描方法，选取直线电机驱动导轨以及全局曝光探测器，构建扫描装置；根据硬件各项参数，经过计算确定合适的导轨移动速度和探测器的曝光时间，采图需满足图像拼接要求的同时无拖影；确定选取的曝光时间与导轨速度是否满足需求；对待测光学元件，从扫描起始点到扫描终点采用蛇形扫描路径，扫描过程中，直线电机控制导轨以选取的导轨速度进行匀速运动；实时返回导轨位置并与理论值进行对比，达到理论值时发送信号到数据采集单元利用选取的曝光时间进行采图，获得大口径光学元件的子孔径图像。利用本发明，既能满足图像拼接需求，还能大幅缩短扫描时间。
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公开(公告)号：CN102730624A
公开(公告)日：2012-10-17
申请号：CN201210209387.2
申请日：2012-06-25
Applicant: 浙江大学
Abstract: 本发明公开了一种实时颜色动态调控微器件及其制备和调控方法。利用同步辐射光源在铂层上制备高深宽比的PMMA二维微结构阵列，利用直流磁控溅射在微结构内部沉积锆钛酸铅薄膜层，在微结构的顶部沉积高反射率纳米金属铬层，形成有高度差的上下两层反射层，通过改变铂、铬之间的电压，实时控制两反射层之间的高度差，使器件在自然光条件下呈现出不同的颜色，实现颜色的动态调控。本发明突破了传统微结构阵列深度方向尺寸固定的限制，利用压电薄膜材料的逆压电效应，只需改变外部电压，即可实时控制微结构的深度变化，从而实现无颜料多种色彩的实时动态调控，符合绿色环保的主题，可望在光学、材料学及印刷业、建筑业等领域获得广泛应用。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116878378A
公开(公告)日：2023-10-13
申请号：CN202310761296.8
申请日：2023-06-27
Applicant: 浙江大学 , 杭州利珀科技有限公司
Abstract: 本发明公开了一种机械臂操纵下的大口径球面光学元件定心和定域方法，采用自动定心和定域装置，包括样品台、机械臂、安装在机械臂上的带有光谱共焦传感器和相机的探头、与光谱共焦传感器电连接的数据采集单元、与数据采集单元电连接的数据分析处理单元，以及用于接收数据分析处理单元的反馈并控制机械臂运动的控制单元；对于大口径球面光学元件来说，通过采集球面上某一同心圆的三个点来自动定心，然后通过采集边缘点来自动定域。本发明简单易行，无需对传感器进行定标，仅需要通过工业机械臂承载光学精密探头进行三维移动，降低机械设计与装配难度，实现光学元件的非接触式、快速、自动定心和定域，适合流水化生产和检测大口径光学元件。
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公开(公告)号：CN116379974B
公开(公告)日：2023-09-29
申请号：CN202310177455.X
申请日：2023-02-28
Applicant: 浙江大学 , 杭州利珀科技有限公司
Abstract: 本发明公开了一种多波长光源检测光学元件表面特性装置及方法，包括多波长光源模块、高精度运动平台、安装在高精度运动平台上的用于夹持待测光学元件的样品台、散射探测模块、与散射探测模块连接的数据分析处理模块以及用于控制高精度运动平台运动的控制模块；多波长光源模块由多台激光器和对应的多台光功率计组成；光功率计用于实时检测激光器的出射功率，激光器出射的激光光线透射经过分光镜后，再通过对应的二向色镜后同轴照射在待测光学元件表面形成散射光，散射光经散射探测模块收集并通过数据分析处理模块进行分析。利用本发明，可实现光学元件表面散射信号检测，建立与光学元件表面粗糙度检测、损伤阈值的关系。
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公开(公告)号：CN116040955B
公开(公告)日：2023-09-29
申请号：CN202310074481.X
申请日：2023-02-07
Applicant: 浙江大学 , 杭州利珀科技有限公司
IPC: C03C15/00
Abstract: 本发明公开了一种用于检测系统标定的熔石英表面微纳结构加工方法，包括以下步骤：S1：准备熔石英玻璃基片，依次经过超声机、等离子机清洗后，吹干备用；S2：依次涂覆六甲基二硅氮甲烷、电子束光刻胶、导电胶；S3：采用电子束曝光的方式，将待加工纳米级图形结构转移至表面的电子束光刻胶上；S4：对熔石英玻璃基片进行刻蚀后，洗净熔石英玻璃基片；S5：依次涂覆六甲基二硅氮甲烷、光刻胶；S6：采用激光直写曝光的方式，将待加工微米级图形结构以套刻的形式转移至表面的光刻胶上；S7：对玻璃基片进行刻蚀，洗净玻璃基片，形成最终的玻璃器件结构。利用本发明，可以解决现有标定板中线宽过大、长度无法充满整个幅宽的问题。
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公开(公告)号：CN116040955A
公开(公告)日：2023-05-02
申请号：CN202310074481.X
申请日：2023-02-07
Applicant: 浙江大学 , 杭州利珀科技有限公司
IPC: C03C15/00
Abstract: 本发明公开了一种用于检测系统标定的熔石英表面微纳结构加工方法，包括以下步骤：S1：准备熔石英玻璃基片，依次经过超声机、等离子机清洗后，吹干备用；S2：依次涂覆六甲基二硅氮甲烷、电子束光刻胶、导电胶；S3：采用电子束曝光的方式，将待加工纳米级图形结构转移至表面的电子束光刻胶上；S4：对熔石英玻璃基片进行刻蚀后，洗净熔石英玻璃基片；S5：依次涂覆六甲基二硅氮甲烷、光刻胶；S6：采用激光直写曝光的方式，将待加工微米级图形结构以套刻的形式转移至表面的光刻胶上；S7：对玻璃基片进行刻蚀，洗净玻璃基片，形成最终的玻璃器件结构。利用本发明，可以解决现有标定板中线宽过大、长度无法充满整个幅宽的问题。
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公开(公告)号：CN118010318B
公开(公告)日：2024-09-13
申请号：CN202410214598.8
申请日：2024-02-27
Applicant: 浙江大学 , 杭州利珀科技有限公司
Abstract: 本发明公开了一种大口径光学元件光热特性检测装置及方法，包括泵浦模块、探测模块和调平对焦模块；泵浦激光光源出射的连续激光通过斩波器调制后经过透镜镜组聚焦照射到样品表面；探测激光光源出射的连续光源经过透镜镜组照射到泵浦光聚焦点同一区域内且完全覆盖泵浦聚焦光斑，经过光学元件反射并通过滤光片及针孔后由光电探测器接收；接收到的信号通过锁相放大器提取后发送给计算机进行处理；光谱共焦位移传感器返回实时位置，通过算法搭配俯仰偏摆位移台自动调平待测光学元件，三轴位移台调整扫描对焦位置，扫描后最终生成整个光学元件的吸收率分布图像。利用本发明，可以实现对大口径光学元件光热特性的有效准确检测。
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