一种基于光通量约束的随机编码混合光栅

    公开(公告)号:CN104656173A

    公开(公告)日:2015-05-27

    申请号:CN201510066327.3

    申请日:2015-02-09

    Applicant: 浙江大学

    CPC classification number: G02B5/18 G01J9/02 G02B5/1857

    Abstract: 本发明公开了一种基于光通量约束的随机编码混合光栅。本发明包括不透明掩膜S2和透明基底S1;掩膜S2覆盖在基底S1上的部分区域,使得光栅上每个面积为S的正方形区域的光通量满足 分布,其中为所述随机编码混合光栅的栅距,并且在各个面积为S的正方形区域内掩膜区块呈随机排布;另对基底S1上范围内且无掩膜覆盖区域的基底加以刻蚀,所述刻蚀深度使得通过刻蚀区域透光部分的光波相对于未刻蚀基底透光部分的光波超前π相位。本发明一方面省略了传统交叉光栅四波前横向剪切干涉中的级次选择窗口,简化系统结构的同时提高了系统稳定性,另一方面在形成的四波前横向剪切干涉图中也减少了其他衍射级次的干扰,提高了对待测波前的检测精度。

    一种基于光通量约束的随机编码混合光栅

    公开(公告)号:CN104656173B

    公开(公告)日:2017-05-03

    申请号:CN201510066327.3

    申请日:2015-02-09

    Applicant: 浙江大学

    Abstract: 本发明公开了一种基于光通量约束的随机编码混合光栅。本发明包括不透明掩膜S2和透明基底S1;掩膜S2覆盖在基底S1上的部分区域,使得光栅上每个面积为S的正方形区域的光通量满足分布,其中为所述随机编码混合光栅的栅距,并且在各个面积为S的正方形区域内掩膜区块呈随机排布;另对基底S1上范围内且无掩膜覆盖区域的基底加以刻蚀,所述刻蚀深度使得通过刻蚀区域透光部分的光波相对于未刻蚀基底透光部分的光波超前π相位。本发明一方面省略了传统交叉光栅四波前横向剪切干涉中的级次选择窗口,简化系统结构的同时提高了系统稳定性,另一方面在形成的四波前横向剪切干涉图中也减少了其他衍射级次的干扰,提高了对待测波前的检测精度。

    精密表面缺陷散射三维显微成像装置

    公开(公告)号:CN104062233A

    公开(公告)日:2014-09-24

    申请号:CN201410294723.7

    申请日:2014-06-26

    Applicant: 浙江大学

    Abstract: 本发明公开了一种精密表面缺陷散射三维显微成像装置。本发明包括光源、光束准直系统、光栅、移相压电陶瓷、移相驱动器、电动旋转台、伺服电机驱动器、投影物镜、偏振分光镜、显微物镜、Z向扫描压电陶瓷、Z向扫描驱动器、待测样品、成像透镜、探测器和计算机;光栅置于电动旋转台中心,移相压电陶瓷通过移相驱动器与计算机相连接,电动旋转台通过伺服电机驱动器与计算机相连接,Z向扫描压电陶瓷通过Z向扫描驱动器与计算机相连接;光源、光束准直系统、光栅、投影物镜、偏振分光镜、显微物镜以及待测样品在条纹投影照明光路中顺序排列。本发明解决了普通显微镜无法获取疵病深度的问题,实现了对精密表面缺陷的暗场三维显微成像。

    四波前横向剪切干涉波前传感器的灵敏度增强装置及方法

    公开(公告)号:CN106767391A

    公开(公告)日:2017-05-31

    申请号:CN201611205317.4

    申请日:2016-12-23

    Applicant: 浙江大学

    CPC classification number: G01B9/02055

    Abstract: 本发明公开了一种四波前横向剪切干涉波前传感器的灵敏度增强装置及方法。本发明在单个四波前横向剪切干涉波前传感器的基础上,将待测光束分为两束后再增加一个四波前横向剪切干涉波前传感器,分别调节两波前传感器中光栅与探测器之间的距离使相应剪切率组合满足灵敏度增强条件,实现了大剪切率情况下利用傅里叶变换位相重建技术的高分辨率高灵敏度检测。本发明的优点在于解决了传统四波前横向剪切干涉系统在大剪切率情况下采用傅里叶变换位相重建技术时由于频谱泄漏效应导致解调出的波前位相存在周期性振荡误差的问题,通过组合剪切率来消除相对灵敏度为零的区域,补足频谱中周期性缺失的信息,相对于传统干涉仪提高了测量灵敏度。

    精密表面缺陷散射三维显微成像装置

    公开(公告)号:CN104062233B

    公开(公告)日:2015-06-03

    申请号:CN201410294723.7

    申请日:2014-06-26

    Applicant: 浙江大学

    Abstract: 本发明公开了一种精密表面缺陷散射三维显微成像装置。本发明包括光源、光束准直系统、光栅、移相压电陶瓷、移相驱动器、电动旋转台、伺服电机驱动器、投影物镜、偏振分光镜、显微物镜、Z向扫描压电陶瓷、Z向扫描驱动器、待测样品、成像透镜、探测器和计算机;光栅置于电动旋转台中心,移相压电陶瓷通过移相驱动器与计算机相连接,电动旋转台通过伺服电机驱动器与计算机相连接,Z向扫描压电陶瓷通过Z向扫描驱动器与计算机相连接;光源、光束准直系统、光栅、投影物镜、偏振分光镜、显微物镜以及待测样品在条纹投影照明光路中顺序排列。本发明解决了普通显微镜无法获取疵病深度的问题,实现了对精密表面缺陷的暗场三维显微成像。

    中心遮挡情况下的大口径偏折型径向剪切干涉检测装置及其方法

    公开(公告)号:CN102645316B

    公开(公告)日:2014-07-02

    申请号:CN201210121717.2

    申请日:2012-04-24

    Applicant: 浙江大学

    Abstract: 本发明公开了一种中心遮挡情况下的大口径偏折型径向剪切干涉检测装置及其方法。本发明的技术特点是在传统径向剪切干涉检测方法的基础上,通过提高望远镜系统的剪切率,并利用反射镜在竖直方向的倾斜将缩束光斑移至扩束光斑的边缘区域,使缩束光斑脱离扩束光斑中因目标物遮挡所形成的阴影处形成干涉,实现了有目标物中心遮挡情况下对特定空间区域的径向剪切干涉检测。本发明的优点在于解决了采用传统径向剪切干涉方法无法对含有目标物中心遮挡的区域进行波前检测的难题,同时,由于干涉区域移至扩束光斑边缘,使得干涉图的处理可以采用较为简单的相位解包方法,而非径向剪切波面迭代重构,在一定程度上简化了干涉图的处理过程,缩短了处理时间。

    四波前横向剪切干涉波前传感器的灵敏度增强装置及方法

    公开(公告)号:CN106767391B

    公开(公告)日:2019-06-14

    申请号:CN201611205317.4

    申请日:2016-12-23

    Applicant: 浙江大学

    Abstract: 本发明公开了一种四波前横向剪切干涉波前传感器的灵敏度增强装置及方法。本发明在单个四波前横向剪切干涉波前传感器的基础上,将待测光束分为两束后再增加一个四波前横向剪切干涉波前传感器,分别调节两波前传感器中光栅与探测器之间的距离使相应剪切率组合满足灵敏度增强条件,实现了大剪切率情况下利用傅里叶变换位相重建技术的高分辨率高灵敏度检测。本发明的优点在于解决了传统四波前横向剪切干涉系统在大剪切率情况下采用傅里叶变换位相重建技术时由于频谱泄漏效应导致解调出的波前位相存在周期性振荡误差的问题,通过组合剪切率来消除相对灵敏度为零的区域,补足频谱中周期性缺失的信息,相对于传统干涉仪提高了测量灵敏度。

    中心遮挡情况下的大口径偏折型径向剪切干涉检测装置及其方法

    公开(公告)号:CN102645316A

    公开(公告)日:2012-08-22

    申请号:CN201210121717.2

    申请日:2012-04-24

    Applicant: 浙江大学

    Abstract: 本发明公开了一种中心遮挡情况下的大口径偏折型径向剪切干涉检测装置及其方法。本发明的技术特点是在传统径向剪切干涉检测方法的基础上,通过提高望远镜系统的剪切率,并利用反射镜在竖直方向的倾斜将缩束光斑移至扩束光斑的边缘区域,使缩束光斑脱离扩束光斑中因目标物遮挡所形成的阴影处形成干涉,实现了有目标物中心遮挡情况下对特定空间区域的径向剪切干涉检测。本发明的优点在于解决了采用传统径向剪切干涉方法无法对含有目标物中心遮挡的区域进行波前检测的难题,同时,由于干涉区域移至扩束光斑边缘,使得干涉图的处理可以采用较为简单的相位解包方法,而非径向剪切波面迭代重构,在一定程度上简化了干涉图的处理过程,缩短了处理时间。

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