公开(公告)号：CN105869204B

公开(公告)日：2018-07-17

申请号：CN201610183981.7

申请日：2016-03-28

Applicant: 浙江大学

Inventor： 侯启明 ,  任重 ,  丁珂 ,  秦昊

IPC: G06T15/06 ,  G06T15/08

Abstract: 本发明公开了一种参与介质中的无偏光子映射绘制方法，本发明从子路径采样技术改进、理论公式改造、无偏项估计的重要性采样、介质边界情况讨论等方面来对无偏光子聚集方法进行改进，使得在参与介质的场景中始终得到无偏的绘制结果。本发明还将多重重要性采样的权重进行了改进，从而将参与介质上的无偏光子映射方法与双向光线跟踪技术相结合，使得可以同时发挥两种方法在不同情景下的优势。

公开(公告)号：CN105869204A

公开(公告)日：2016-08-17

申请号：CN201610183981.7

申请日：2016-03-28

Applicant: 浙江大学

Inventor： 侯启明 ,  任重 ,  丁珂 ,  秦昊

IPC: G06T15/06 ,  G06T15/08

CPC classification number: G06T15/06 ,  G06T15/08

Abstract: 本发明公开了一种参与介质中的无偏光子映射绘制方法，本发明从子路径采样技术改进、理论公式改造、无偏项估计的重要性采样、介质边界情况讨论等方面来对无偏光子聚集方法进行改进，使得在参与介质的场景中始终得到无偏的绘制结果。本发明还将多重重要性采样的权重进行了改进，从而将参与介质上的无偏光子映射方法与双向光线跟踪技术相结合，使得可以同时发挥两种方法在不同情景下的优势。