公开(公告)号：CN118330875A

公开(公告)日：2024-07-12

申请号：CN202410415982.4

申请日：2024-04-08

Applicant: 浙江兆奕科技有限公司

Inventor： 许方威

IPC: G02B27/00

Abstract: 本发明涉及动态光学技术领域，本发明公开了微米级高景深纹理光刻文件设计方法，包括以下步骤：步骤一、借助菲涅尔透镜的原理将纹理深度保持在20um以内，并将所设计的纹理三维曲面形态分解为小于人眼可辨识尺寸的微小单元，每个单元由平面或组合平面构成，其法矢量与曲面对应位置的法矢量相同；步骤二、通过精确计算和设计每个单元的微结构，确保在观看时不会产生额外的视觉要素，如干扰条纹或者模糊区域，从而提升了裸眼3D效果的清晰度和真实感；步骤三、使用用于模拟和渲染微结构动态视效的仿真渲染器，在实际制作透镜之前预测和评估其视觉效果。本发明实现了在宏观上连续且平滑的视觉效果，使得裸眼观看3D效果时更为自然和真实。

公开(公告)号：CN114757857A

公开(公告)日：2022-07-15

申请号：CN202210253660.5

申请日：2022-03-15

Applicant: 浙江兆奕科技有限公司

Inventor： 许方威 ,  顾正 ,  王增辉 ,  赵章林 ,  邵宜健

IPC: G06T5/40 ,  G06T5/00

Abstract: 本发明提出了一种闪光砂光刻文件设计系统及其设计方法，该系统包括信息读取模块、闪光砂单体制作模块、整图制作模块、界面交互模块；信息读取模块用于读取闪光砂具体数值信息，并计算所需的概率分布图片的像素尺寸；闪光砂单体制作模块用于生成闪光砂单体的灰度信息，并根据所提供的范围尺寸进行大小高度的随机变化以形成漫反射的效果；整图制作模块根据用户提供的概率分布图片的灰度，利用单个灰度信息，进行伪随机排布，生成最终的整图的灰度二进制文件；界面交互模块用于向用户发出错误信息的提醒、概率分布图片尺寸的提醒。本发明采用二进制的设计文件格式，使常规的工业设计师参与到闪光砂设计过程中，实现闪光砂效果设计的可控性，便捷。

公开(公告)号：CN118393723A

公开(公告)日：2024-07-26

申请号：CN202410493758.7

申请日：2024-04-23

Applicant: 浙江兆奕科技有限公司

Inventor： 王力巧 ,  许方威 ,  赵章林

IPC: G02B27/00

Abstract: 本发明涉及表面装饰技术领域，公开了一种多层光学纹理复合的设计方法，包括以下步骤：步骤一、输入图像：针对给定的效果图或样品，拆分出n个单层图像；步骤二、单层设计：对于已获得的单层图像，识别灰度信息映射光栅角度信息，设置光栅周期、频率及截面形状，形成单层纹理；步骤三、多层复合：以掩膜的方式进行多层纹理复合，识别像素格子的行列信息，设置掩膜分辨率及部分空值循环；步骤四、纹理输出：输出复合纹理的微结构图档，用于光刻加工，优选的，在步骤二中对于有渐消效果的图像，可另外提取灰度信息，映射光栅高度信息，形成若隐若现的单层渐消纹理。本发明设计复合的纹理不存在这些局限性，使纹理更灵动通透，光影跑动效果也更加丰富。

公开(公告)号：CN118134756A

公开(公告)日：2024-06-04

申请号：CN202410283925.5

申请日：2024-03-13

Applicant: 浙江兆奕科技有限公司

Inventor： 许方威 ,  王力巧

IPC: G06T3/4038 ,  G06T7/136 ,  G06T7/13 ,  G06T7/11 ,  G06T5/70 ,  G06T5/80 ,  G06T3/4053 ,  G06F30/10

Abstract: 本发明涉及光刻BMP图像技术领域，公开了分割输出无缝拼接光刻BMP图像文件设计方法，包括以下步骤：步骤一、将大尺寸或高精度要求的矢量设计稿分割成多个相等或适当大小的部分；步骤二、将分割后的设计稿部分输出为一系列编号顺序排列的BMP图像文件，便于后续的图像处理和拼接工作；步骤三、通过脚本或专用软件插件实现设计稿的自动分割和输出；步骤四、在输出的BMP图像文件基础上，使用高精度图像处理技术进行拼接，确保拼接后的图像无缝且不失真；步骤五、根据不同的制作工艺要求调整分割的尺寸、输出的精度以及输出的色彩模式。本发明满足特定制作工艺的高精度要求，适应不同的应用场合和需求，灵活性提高。

公开(公告)号：CN115239864A

公开(公告)日：2022-10-25

申请号：CN202210734782.6

申请日：2022-06-27

Applicant: 浙江兆奕科技有限公司

Inventor： 王增辉 ,  赵章林 ,  顾正 ,  邵宜健 ,  许方威

IPC: G06T15/04

Abstract: 本发明公开了一种合成纹理制作工艺，包括以下步骤：一)微纳米纹理结构拼接、二)激光直写光刻和三)显影，与现有技术相比，能够规避和减弱摩尔纹的影响。

公开(公告)号：CN119885304A

公开(公告)日：2025-04-25

申请号：CN202411715192.4

申请日：2024-11-27

Applicant: 浙江兆奕科技有限公司

Inventor： 王力巧 ,  许方威

IPC: G06F30/10 ,  G06T11/20

Abstract: 本发明公开了，一种计算机辅助生成图案的设计方法，包括输入分析模块、点云映射模块、随机分布模块、批量筛选分组模块、线映射模块、线生成模块、图生图模块、光栅模块、砂效模块和立体效果模块，在传统的设计过程中，设计师往往需要进行大量的手工操作，这些操作耗时耗力。尤其，在进行高精度，密集线稿绘画时，易出错且不便于全览设计方案，该设计方法提供了一种可视化计算机辅助生成图案的设计方法，可以实时模拟效果，提高设计效率的同时避免了改版时间长，设计成本高昂等问题，同时操作流程精简，具有多种设计模块，可以满足不同的设计需求，降低使用门槛。