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公开(公告)号:CN117729833A
公开(公告)日:2024-03-19
申请号:CN202311754538.7
申请日:2023-12-20
Applicant: 济南大学
IPC: H10N15/00 , B23K26/352
Abstract: 本发明公开了一种在空气中实现铌酸锂/钽酸锂晶片热释电压增强的方法。将抛光后的晶片置于空气氛围中,按照设定的图形,使激光聚焦照射铌酸锂/钽酸锂晶片,得到表层被黑化的铌酸锂/钽酸锂晶片。本发明在空气氛围内,采用激光聚焦照射铌酸锂/钽酸锂晶片,能够快速实现铌酸锂/钽酸锂晶片表层氧空位诱导,同时还可以对表层氧空位诱导的区域进行选择,能使晶片具有热释电性能,用于提高热释电传感器的灵敏度。
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公开(公告)号:CN114836836B
公开(公告)日:2023-07-14
申请号:CN202210716285.3
申请日:2022-06-23
Applicant: 济南大学
Abstract: 本发明公开了一种铌酸锂晶片/钽酸锂晶片局域快速黑化方法,包括以下步骤:(1)将抛光后的铌酸锂晶片或钽酸锂晶片置于密闭装置中,然后充满还原性气体;(2)按照设定好的图形,激光欠焦照射铌酸锂晶片或钽酸锂晶片,通入惰性气体排出还原性气体,得到局域黑化的晶片。所述激光欠焦的参数为:激光波长为1064nm,激光功率为4~10W,欠焦距离为0.50~2.50cm,扫速为100~600mm/s。本发明在还原性气体氛围内,采用激光照射铌酸锂晶片或钽酸锂晶片,能够快速实现晶片黑化,同时还可以对黑化的区域进行选择,达到局域化黑化的目的。
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公开(公告)号:CN114836836A
公开(公告)日:2022-08-02
申请号:CN202210716285.3
申请日:2022-06-23
Applicant: 济南大学
Abstract: 本发明公开了一种铌酸锂晶片/钽酸锂晶片局域快速黑化方法,包括以下步骤:(1)将抛光后的铌酸锂晶片或钽酸锂晶片置于密闭装置中,然后充满还原性气体;(2)按照设定好的图形,激光欠焦照射铌酸锂晶片或钽酸锂晶片,通入惰性气体排出还原性气体,得到局域黑化的晶片。所述激光欠焦的参数为:激光波长为1064nm,激光功率为4~10W,欠焦距离为0.50~2.50cm,扫速为100~600mm/s。本发明在还原性气体氛围内,采用激光照射铌酸锂晶片或钽酸锂晶片,能够快速实现晶片黑化,同时还可以对黑化的区域进行选择,达到局域化黑化的目的。
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