一种提高陶瓷釉面质量的窑炉

    公开(公告)号:CN214308169U

    公开(公告)日:2021-09-28

    申请号:CN202120340559.4

    申请日:2021-02-06

    Abstract: 本实用新型涉及陶瓷窑炉领域,一种提高陶瓷釉面质量的窑炉,包括窑体,所述窑体搭配有供热设备,所述窑体两侧设有窑门,所述窑体顶部均匀设置多个散热口,所述散热口贯穿所述窑体,所述散热口顶部具有锥形结构的开口,其顶部孔径大于其底部孔径,所述开口上方设有可开合的盖体,所述盖体底部设有密封层和隔热层。本实用新型的目的在于提供一种提高陶瓷釉面质量的窑炉,有助于解决现有结构冷却速度不均,成品率低的问题。

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