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公开(公告)号：CN117406434A
公开(公告)日：2024-01-16
申请号：CN202311556010.9
申请日：2023-11-21
Applicant: 河南科技大学
IPC: G02B27/00
Abstract: 一种具有两种手性结构的光学涡旋晶格掩模板设计方法，基于光束塑形技术，获取同时包含手性强度分布和手性相位分布的光学涡旋晶格的复振幅表达式，结合该光学涡旋晶格的振幅、相位与闪耀光栅，得到同时包含手性强度分布和手性相位分布的光学涡旋晶格掩模板的复透过率函数，基于该复透过率函数所描述的掩模板即为本发明所设计的可产生同时包含手性强度分布和手性相位分布的光学涡旋晶格掩模板，其螺旋形光瓣数量可控，且螺旋形光瓣中光学涡旋的数量可控。相比传统的手性光场，本发明设计的同时包含手性强度分布和手性相位分布的光学涡旋晶格利用了光场中强度和相位两个物理量，显著简化了光路结构，因而在细胞分选技术中具有非常重要的应用前景。
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