公开(公告)号：CN118444546A

公开(公告)日：2024-08-06

申请号：CN202310080473.6

申请日：2023-02-03

Applicant: 江苏维格新材料科技有限公司 ,  苏州苏大维格科技集团股份有限公司

Inventor： 刘晓宁 ,  杨颖 ,  张国勇 ,  沈悦 ,  衡楠

IPC: G03H1/08

Abstract: 本申请涉及显示技术领域，具体公开一种计算全息的制作方法、装置及可读存储介质。方法包括：预设效果图；对所述效果图进行预处理，以得到多个具有对应景深的平面图像；对各所述平面图像进行计算全息数据处理，生成各相位调制图；组合各所述相位调制图，并对组合后的相位调制图进行光刻。由此，通过对拆分得到的各平面图像单独进行计算全息数据处理后再进行组合，即，将计算全息进行组合应用，可以避免大数据量的计算，同时增加了效果的多样性，例如景深、立体、转动字等，可以更广泛地应用于包装防伪上。

公开(公告)号：CN118226709A

公开(公告)日：2024-06-21

申请号：CN202211630983.8

申请日：2022-12-19

Applicant: 江苏维格新材料科技有限公司

Inventor： 刘晓宁 ,  杨颖 ,  张国勇 ,  沈悦 ,  韩春芳 ,  任佳莹

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明公开了一种复合光刻结构及其制作方法，所述复合光刻结构，包括至少两个具有不同光刻结构且相交的光刻单元，各个所述光刻单元分别在相交处形成重叠区域；每一所述光刻单元分别在所述重叠区域内设有若干个点单元，用于去除对应所述光刻单元的部分结构；当不同的光刻单元组合时，不同的所述光刻单元对应的点单元之间相互嵌合设置；本发明能够使具有不同纹理结构和效果的光刻结构无缝融合。

公开(公告)号：CN118226709B

公开(公告)日：2025-01-28

申请号：CN202211630983.8

申请日：2022-12-19

Applicant: 江苏维格新材料科技有限公司

Inventor： 刘晓宁 ,  杨颖 ,  张国勇 ,  沈悦 ,  韩春芳 ,  任佳莹

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明公开了一种复合光刻结构及其制作方法，所述复合光刻结构，包括至少两个具有不同光刻结构且相交的光刻单元，各个所述光刻单元分别在相交处形成重叠区域；每一所述光刻单元分别在所述重叠区域内设有若干个点单元，用于去除对应所述光刻单元的部分结构；当不同的光刻单元组合时，不同的所述光刻单元对应的点单元之间相互嵌合设置；本发明能够使具有不同纹理结构和效果的光刻结构无缝融合。

公开(公告)号：CN219609983U

公开(公告)日：2023-08-29

申请号：CN202320116877.1

申请日：2023-01-17

Applicant: 江苏维格新材料科技有限公司

Inventor： 刘晓宁 ,  杨颖 ,  张国勇 ,  衡楠 ,  王钦华 ,  伍新华 ,  周文辉

IPC: G09F19/12 ,  G02B30/27

Abstract: 本实用新型提供一种微透镜阵列薄膜，包括依次层叠设置的微透镜层、间隔层和图文层，且所述图文层和所述微透镜层中的至少一者形成有微纳结构，所述图文层的槽型中填充油墨。本实用新型通过在微透镜阵列薄膜上增加微纳结构，使微透镜放大成像呈现的动态景深效果和微纳结构的镭射/立体浮雕/铂金动态光影等效果结合，实现多种成像效果的技术效果。