一种GaAs刻蚀工艺的检测工艺及检测系统

    公开(公告)号:CN118398515B

    公开(公告)日:2024-11-12

    申请号:CN202410854311.8

    申请日:2024-06-28

    Abstract: 本发明属于刻蚀工艺监管技术领域,具体是一种GaAs刻蚀工艺的检测工艺及检测系统,其中,该检测系统包括智能控制平台、光源模块、高精度摄像模块、图像处理分析模块和显示模块;本发明通过光源模块照亮待检测的GaAs刻蚀产品的表面,高精度摄像模块捕获GaAs刻蚀产品的表面图像,图像处理分析模块通过特定的算法对图像进行精确处理和分析,显示模块对相应GaAs刻蚀产品的处理分析信息进行显示,能够满足GaAs刻蚀工艺检测的高精度和高效率要求,且能够对所有刻蚀设备和产生的所有刻蚀缺陷进行分析并准确划分,有利于管理人员合理作出相应改善措施,有效保证GaAs刻蚀的刻蚀效果,智能化和自动化水平高。

    一种GaAs刻蚀工艺的检测工艺及检测系统

    公开(公告)号:CN118398515A

    公开(公告)日:2024-07-26

    申请号:CN202410854311.8

    申请日:2024-06-28

    Abstract: 本发明属于刻蚀工艺监管技术领域,具体是一种GaAs刻蚀工艺的检测工艺及检测系统,其中,该检测系统包括智能控制平台、光源模块、高精度摄像模块、图像处理分析模块和显示模块;本发明通过光源模块照亮待检测的GaAs刻蚀产品的表面,高精度摄像模块捕获GaAs刻蚀产品的表面图像,图像处理分析模块通过特定的算法对图像进行精确处理和分析,显示模块对相应GaAs刻蚀产品的处理分析信息进行显示,能够满足GaAs刻蚀工艺检测的高精度和高效率要求,且能够对所有刻蚀设备和产生的所有刻蚀缺陷进行分析并准确划分,有利于管理人员合理作出相应改善措施,有效保证GaAs刻蚀的刻蚀效果,智能化和自动化水平高。

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