一种从废CRT荧光粉中回收稀土的方法

    公开(公告)号:CN114854990A

    公开(公告)日:2022-08-05

    申请号:CN202210459810.8

    申请日:2022-04-24

    Abstract: 一种从废CRT荧光粉中回收稀土的方法,包括以下步骤:(1)将废CRT荧光粉加入浓硫酸中,然后水浴反应;(2)将步骤(1)后得到的反应物进行水浸,得到富铕渣和含稀土钇和少量铕的浸出液;(3)将步骤(2)得到富铕渣加水继续水浸,得到浸出渣和含铕的浸出液。本发明采用浓硫酸预处理废CRT荧光粉,可使废CRT荧光粉中稀土转化成可溶性的硫酸盐,同时钝化杂质铝,减少杂质的干扰,在一定程度上实现了稀土元素的选择性浸出;同时荧光粉中的主要杂质硫化锌与浓硫酸反应,生成二氧化硫气体,避免了有毒气体硫化氢的产生,二氧化硫可以通过收集制备硫酸,可再次用于废CRT荧光粉回收过程的预处理,实现硫元素的循环利用。

    一种高纯草酸镓制备装置

    公开(公告)号:CN116328694B

    公开(公告)日:2023-08-29

    申请号:CN202310580301.5

    申请日:2023-05-23

    Abstract: 本发明公开了一种高纯草酸镓制备装置,包括第一反应釜、精滤装置、第二反应釜、第一真空过滤机、第一洗涤装置、第一真空干燥装置、第三反应釜、第二真空过滤机、结晶装置、微滤过滤器、浓缩釜、高速离心过滤机、第二真空干燥装置;所述第二反应釜包括釜体、进酸管、胶状物下沉装置;用于制备高纯度的草酸镓,第二反应釜设置进酸管缓慢滴加醋酸生成氢氧化镓胶状物,胶状物达到一定饱和度影响中和反应的效率,及时将胶状物下沉加快反应速率,胶状物下沉装置伞架可收放,打开状态下降使得胶状物下沉,提升复位时合起降低阻力,复位后再打开,自动化程度高。

    一种从废CRT荧光粉中回收稀土的方法

    公开(公告)号:CN114854990B

    公开(公告)日:2023-04-25

    申请号:CN202210459810.8

    申请日:2022-04-24

    Abstract: 一种从废CRT荧光粉中回收稀土的方法,包括以下步骤:(1)将废CRT荧光粉加入浓硫酸中,然后水浴反应;(2)将步骤(1)后得到的反应物进行水浸,得到富铕渣和含稀土钇和少量铕的浸出液;(3)将步骤(2)得到富铕渣加水继续水浸,得到浸出渣和含铕的浸出液。本发明采用浓硫酸预处理废CRT荧光粉,可使废CRT荧光粉中稀土转化成可溶性的硫酸盐,同时钝化杂质铝,减少杂质的干扰,在一定程度上实现了稀土元素的选择性浸出;同时荧光粉中的主要杂质硫化锌与浓硫酸反应,生成二氧化硫气体,避免了有毒气体硫化氢的产生,二氧化硫可以通过收集制备硫酸,可再次用于废CRT荧光粉回收过程的预处理,实现硫元素的循环利用。

    一种高纯草酸镓制备装置

    公开(公告)号:CN116328694A

    公开(公告)日:2023-06-27

    申请号:CN202310580301.5

    申请日:2023-05-23

    Abstract: 本发明公开了一种高纯草酸镓制备装置,包括第一反应釜、精滤装置、第二反应釜、第一真空过滤机、第一洗涤装置、第一真空干燥装置、第三反应釜、第二真空过滤机、结晶装置、微滤过滤器、浓缩釜、高速离心过滤机、第二真空干燥装置;所述第二反应釜包括釜体、进酸管、胶状物下沉装置;用于制备高纯度的草酸镓,第二反应釜设置进酸管缓慢滴加醋酸生成氢氧化镓胶状物,胶状物达到一定饱和度影响中和反应的效率,及时将胶状物下沉加快反应速率,胶状物下沉装置伞架可收放,打开状态下降使得胶状物下沉,提升复位时合起降低阻力,复位后再打开,自动化程度高。

    一种具有回收的功能沉降槽

    公开(公告)号:CN222342064U

    公开(公告)日:2025-01-14

    申请号:CN202323485192.3

    申请日:2023-12-20

    Abstract: 本实用新型涉及锗片加工技术领域,且公开了一种具有回收的功能沉降槽,包括沉降槽本体;设置在沉降槽本体底部的支撑腿;设置在沉降槽本体顶部的进料口;以及设置在沉降槽本体上的开合机构,所述开合机构包括挡板、连接绳、卷线筒、连轴杆、电机和排料口,所述挡板设置在沉降槽本体的内壁右侧,所述排料口开设在沉降槽本体的右侧,所述连接绳绕设在卷线筒上;本实用新型通过将含锗料浆从进料口排进沉降槽本体的内部进行沉降,启动电机,电机带动连轴杆转动,连轴杆带动卷线筒转动对连接绳进行收卷,连接绳拉动挡板上移,使得锗泥从排料口全部排出,避免滞留在沉降槽本体的内部,造成浪费。

    一种锗晶片去胶清洗装置

    公开(公告)号:CN220942109U

    公开(公告)日:2024-05-14

    申请号:CN202322462824.8

    申请日:2023-09-12

    Abstract: 本实用新型公开了一种锗晶片去胶清洗装置,包括装置箱,所述装置箱的顶端固定有安装罩。该锗晶片去胶清洗装置使用时,将晶片工件放置在操作台的顶端,接着控制第二气缸启动,三组弧形夹板同时向内移动,将晶片固定在操作台顶端,控制驱动电机启动利用啮合的驱动齿轮和齿圈带动海绵盘转动,同时控制水泵启动,将装置箱内部的清洗剂抽出并利用出液管输送至集水管内部,再由集水管内侧的喷洒头喷出在锗晶片上,之后控制第一气缸启动输出端向下伸出,并带动海绵盘下移至晶片工件的顶端,转动的海绵盘配合清洗剂使用对晶片上的胶进行湿洗去胶,不容易存在残留胶,解决的是不便于对锗晶片外部进行去胶清洗操作的问题。

Patent Agency Ranking