公开(公告)号：CN111389398A

公开(公告)日：2020-07-10

申请号：CN202010191532.3

申请日：2020-03-18

Applicant: 江苏大学

Inventor： 尹正亮 ,  曹顺生 ,  陈刚 ,  肖颖冠 ,  时庆叶 ,  张宣宣

IPC: B01J23/72 ,  B01J35/08 ,  B01J35/10 ,  B01J37/08 ,  B01J37/18 ,  C07C209/36 ,  C07C211/52 ,  C07C211/45

Abstract: 本发明涉及可见光催化剂，特指一种分级中空二氧化硅限域氧化亚铜可见光催化剂的制备方法。首先通过吸附-蒸干方式把铜离子均匀负载在CPS@SiO2表面上，然后以CPS@SiO2-Cu2+为模板，制备出SiO2外层(CPS@SiO2-Cu2+@SiO2)，再在高温下煅烧除去CPS模板，最后调控温度并在Ar/H2气氛下将氧化铜还原成氧化亚铜。本发明制备的可见光催化剂，用于实现硝基芳烃高效选择性还原成相应苯胺的目的，以解决现有光催化剂在可见光和纯水体系中，无法实现硝基芳烃高效选择性还原的技术难题。

公开(公告)号：CN111389398B

公开(公告)日：2022-07-22

申请号：CN202010191532.3

申请日：2020-03-18

Applicant: 江苏大学

Inventor： 尹正亮 ,  曹顺生 ,  陈刚 ,  肖颖冠 ,  时庆叶 ,  张宣宣

IPC: B01J23/72 ,  B01J35/08 ,  B01J35/10 ,  B01J37/08 ,  B01J37/18 ,  C07C209/36 ,  C07C211/52 ,  C07C211/45

Abstract: 本发明涉及可见光催化剂，特指一种分级中空二氧化硅限域氧化亚铜可见光催化剂的制备方法。首先通过吸附‑蒸干方式把铜离子均匀负载在CPS@SiO2表面上，然后以CPS@SiO2‑Cu2+为模板，制备出SiO2外层(CPS@SiO2‑Cu2+@SiO2)，再在高温下煅烧除去CPS模板，最后调控温度并在Ar/H2气氛下将氧化铜还原成氧化亚铜。本发明制备的可见光催化剂，用于实现硝基芳烃高效选择性还原成相应苯胺的目的，以解决现有光催化剂在可见光和纯水体系中，无法实现硝基芳烃高效选择性还原的技术难题。