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公开(公告)号：CN101747487B
公开(公告)日：2012-04-18
申请号：CN200910263087.0
申请日：2009-12-16
Applicant: 江南大学
IPC: C08G18/72 , C08G18/67 , C08G18/66 , C08G18/48 , C08G18/34 , C08G18/10 , C08K3/36 , C08J3/03 , C09D175/16 , C09D175/08 , C09D7/12
Abstract: 紫外光固化硅溶胶改性水性聚氨酯丙烯酸酯分散体的制备方法，属于紫外光固化水性涂料技术领域。本发明主要采用二异氰酸酯化合物、聚醚多元醇、多羟基羧酸、羟基丙烯酸酯单体为主要原料通过丙酮法制备聚氨酯丙烯酸酯预聚体；加入胺类化合物、水进行成盐及乳化，同时在乳化过程中引入水性二氧化硅溶胶得到紫外光固化硅溶胶改性水性聚氨酯丙烯酸酯分散体。本发明在水性聚氨酯丙烯酸酯分散体合成中原位引入水性纳米二氧化硅，得到硅溶胶改性水性聚氨酯丙烯酸酯分散体，无机纳米二氧化硅的引入使光固化涂层的力学性能明显提高。该分散体可广泛应用于高耐划伤、耐磨的木器、金属、塑胶等表面涂层领域。
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公开(公告)号：CN116332335A
公开(公告)日：2023-06-27
申请号：CN202310110989.0
申请日：2023-02-13
Applicant: 江南大学
IPC: C02F3/12 , C02F3/20 , C02F101/10 , C02F101/16 , C02F101/20 , C02F101/30 , C02F103/20
Abstract: 本发明公开了一种水产品养殖废水中抗生素的处理方法，所述方法包括将水产品养殖废水注入到含有好氧颗粒污泥的反应器中，使用曝气装置对其进行曝气处理的步骤。本发明的废水处理方法简单，成本低，可操作性强。采用本发明的处理方法处理含有抗生素的废水，废水中COD、总氮以及总磷的去除率分别高达79.75％，64.8％和63.8％，抗生素阿维菌素和氟苯尼考的去除率分别高达73.3％和76.4％。采用本发明方法培养的好氧颗粒污泥对不含抗生素的废水中COD、总氮、总磷有较高的去除率，其中COD的去除率可高达92.2％，TN的去除率可以高达82.54％，TP的去除率维持在69.2％。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101747487A
公开(公告)日：2010-06-23
申请号：CN200910263087.0
申请日：2009-12-16
Applicant: 江南大学
IPC: C08G18/72 , C08G18/67 , C08G18/66 , C08G18/48 , C08G18/34 , C08G18/10 , C08K3/36 , C08J3/03 , C09D175/16 , C09D175/08 , C09D7/12
Abstract: 紫外光固化硅溶胶改性水性聚氨酯丙烯酸酯分散体的制备方法，属于紫外光固化水性涂料技术领域。本发明主要采用二异氰酸酯化合物、聚醚多元醇、多羟基羧酸、羟基丙烯酸酯单体为主要原料通过丙酮法制备聚氨酯丙烯酸酯预聚体；加入胺类化合物、水进行成盐及乳化，同时在乳化过程中引入水性二氧化硅溶胶得到紫外光固化硅溶胶改性水性聚氨酯丙烯酸酯分散体。本发明在水性聚氨酯丙烯酸酯分散体合成中原位引入水性纳米二氧化硅，得到硅溶胶改性水性聚氨酯丙烯酸酯分散体，无机纳米二氧化硅的引入使光固化涂层的力学性能明显提高。该分散体可广泛应用于高耐划伤、耐磨的木器、金属、塑胶等表面涂层领域。
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公开(公告)号：CN118307135A
公开(公告)日：2024-07-09
申请号：CN202410285332.2
申请日：2024-03-13
Applicant: 江南大学
Abstract: 本发明涉及一种高效短流程低碳氮比自养污水处理工艺，属于污水脱氮处理技术领域。本发明以硝化好氧颗粒污泥技术为基础与其他生物脱氮工艺相协同的自养污水处理工艺，以生物吸附+硝化好氧颗粒污泥+硫自养反硝化形成无需外部碳源投加、实现超低碳氮污染物排放的短流程自养污水处理工艺。本发明构建的生物吸附/硝化好氧颗粒污泥/硫自养反硝化短流程低碳氮比自养组合工艺，能够达到短流程、降低成本、节省占地、无需碳源投加、减少污泥产量和减少二次污染的风险等优点，有效解决了城市生活污水碳源不足，出水硝氮浓度不达标的问题。
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公开(公告)号：CN102023485B
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN201010543525.1
申请日：2010-11-12
Applicant: 江南大学 , 无锡广信感光科技有限公司
IPC: G03F7/027 , C01B33/146
Abstract: 采用光敏纳米二氧化硅对光致抗蚀材料进行改性制备的方法，属于高分子光致抗蚀材料的技术领域。本发明采用溶胶-凝胶法制得纳米二氧化硅溶胶，再用含双键的硅烷偶联剂为主要原料对其表面进行原位接枝改性，得到光敏纳米二氧化硅，并将其添加到紫外光固化碱溶性预聚物中，通过光敏纳米二氧化硅表面的双键与紫外光固化碱溶性预聚物中的双键相互作用，得到光敏纳米二氧化硅改性的光致抗蚀材料。本发明对光致抗蚀材料进行改性制备之后，可以使其感光敏感性能、尺寸热稳定性能明显提高。经过本发明改性的光致抗蚀材料可应用于印刷线路板抗蚀刻、成像油墨、液晶显示器彩色滤光片等领域。
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公开(公告)号：CN102023485A
公开(公告)日：2011-04-20
申请号：CN201010543525.1
申请日：2010-11-12
Applicant: 江南大学 , 无锡广信感光科技有限公司
IPC: G03F7/027 , C01B33/146
Abstract: 采用光敏纳米二氧化硅对光致抗蚀材料进行改性制备的方法，属于高分子光致抗蚀材料的技术领域。本发明采用溶胶-凝胶法制得纳米二氧化硅溶胶，再用含双键的硅烷偶联剂为主要原料对其表面进行原位接枝改性，得到光敏纳米二氧化硅，并将其添加到紫外光固化碱溶性预聚物中，通过光敏纳米二氧化硅表面的双键与紫外光固化碱溶性预聚物中的双键相互作用，得到光敏纳米二氧化硅改性的光致抗蚀材料。本发明对光致抗蚀材料进行改性制备之后，可以使其感光敏感性能、尺寸热稳定性能明显提高。经过本发明改性的光致抗蚀材料可应用于印刷线路板抗蚀刻、成像油墨、液晶显示器彩色滤光片等领域。
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