公开(公告)号：CN106772741A

公开(公告)日：2017-05-31

申请号：CN201611101092.8

申请日：2016-12-05

Applicant: 江南大学

Inventor： 桑田 ,  李俊浪 ,  王睿 ,  周健宇 ,  王跃科 ,  王继成 ,  王本新

IPC: G02B5/20

CPC classification number: G02B5/203

Abstract: 本发明公开了一种采用单一渐变材料光栅结构实现导模共振滤波的方法，属于光通信与微光机电系统领域。本发明提出在基底上镀制一层折射率随厚度递增的光学薄膜，通过刻蚀该渐变折射率薄膜得到导模共振光栅结构，进而实现导模共振滤波。在此基础上，通过选择不同的刻蚀深度，可以调整滤波器的通道位置；维持刻蚀深度不变，降低渐变系数可以实现多通道滤波。本发明提供的导模共振光栅结构的滤波性能对基底折射率大小变化高度不敏感，即便基底折射率高于渐变薄膜折射率的最大值，导模共振滤波性能保持优良，这摆脱了传统导模共振滤波器中波导层折射率需高于基底折射率的限制，在实际应用中将更有优势。

公开(公告)号：CN106772741B

公开(公告)日：2019-07-23

申请号：CN201611101092.8

申请日：2016-12-05

Applicant: 江南大学

Inventor： 桑田 ,  李俊浪 ,  王睿 ,  周健宇 ,  王跃科 ,  王继成 ,  王本新

IPC: G02B5/20

Abstract: 本发明公开了一种采用单一渐变材料光栅结构实现导模共振滤波的方法，属于光通信与微光机电系统领域。本发明提出在基底上镀制一层折射率随厚度递增的光学薄膜，通过刻蚀该渐变折射率薄膜得到导模共振光栅结构，进而实现导模共振滤波。在此基础上，通过选择不同的刻蚀深度，可以调整滤波器的通道位置；维持刻蚀深度不变，降低渐变系数可以实现多通道滤波。本发明提供的导模共振光栅结构的滤波性能对基底折射率大小变化高度不敏感，即便基底折射率高于渐变薄膜折射率的最大值，导模共振滤波性能保持优良，这摆脱了传统导模共振滤波器中波导层折射率需高于基底折射率的限制，在实际应用中将更有优势。