公开(公告)号：CN102459474B

公开(公告)日：2015-03-25

申请号：CN201080027142.7

申请日：2010-05-17

Applicant: 汉高股份有限及两合公司

Inventor： J·D·麦吉 ,  T·S·史密斯二世 ,  B·D·巴梅尔 ,  T·R·布赖登

IPC: C09D5/08 ,  C09D179/04 ,  C23F11/14 ,  C23F11/173 ,  C23C28/00

CPC classification number: C09D5/084 ,  C09D139/04 ,  C08L2666/02 ,  C08L2666/04

Abstract: 公开了用于金属基材的按需释放型腐蚀抑制剂组合物，其仅由以下物质形成：形成非导电性膜的共聚物；含氮的官能团X，其中所述基团X包括吡啶、二氢吡啶、吡咯、咪唑或它们的混合物；以及金属酸根阴离子。所述金属酸根阴离子通过离子对与所述官能团X中的氮连接。认为pH的局部升高致使通过质子化/去质子化反应释放阴离子，并且被释放的阴离子抑制腐蚀形成。所述涂料组合物不包含导电性聚合物。

公开(公告)号：CN102459474A

公开(公告)日：2012-05-16

申请号：CN201080027142.7

申请日：2010-05-17

Applicant: 汉高股份有限及两合公司

Inventor： J·D·麦吉 ,  T·S·史密斯二世 ,  B·D·巴梅尔 ,  T·R·布赖登

IPC: C09D5/08 ,  C09D179/04 ,  C23F11/14 ,  C23F11/173 ,  C23C28/00

CPC classification number: C09D5/084 ,  C09D139/04 ,  C08L2666/02 ,  C08L2666/04

Abstract: 公开了用于金属基材的按需释放型腐蚀抑制剂组合物，其仅由以下物质形成：形成非导电性膜的共聚物；含氮的官能团X，其中所述基团X包括吡啶、二氢吡啶、吡咯、咪唑或它们的混合物；以及金属酸根阴离子。所述金属酸根阴离子通过离子对与所述官能团X中的氮连接。认为pH的局部升高致使通过质子化/去质子化反应释放阴离子，并且被释放的阴离子抑制腐蚀形成。所述涂料组合物不包含导电性聚合物。