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公开(公告)号:CN206114399U
公开(公告)日:2017-04-19
申请号:CN201621008218.2
申请日:2016-08-31
Applicant: 武钢集团昆明钢铁股份有限公司
IPC: G01N1/32
Abstract: 本实用新型公开了一种用于薄层光谱试样辅助加工的装置,旨在提供一种可有效提高磨制效率的用于薄层光谱试样辅助加工的装置。它包括隔热座,固定设置于隔热座上端且上端面呈矩形的铜块,设置于铜块下端、与铜块导热连接的发热体,一层热熔接于铜块上端面上的焊锡层,设置于隔热座内与发热体电连接的继电器,分别与继电器电连接的温控器及电源插口,以及固定于铜块上、与温控器电连接的温度感应片。本实用新型具有使用方便,寿命长,可重复使用等优点。
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公开(公告)号:CN202837071U
公开(公告)日:2013-03-27
申请号:CN201220528470.1
申请日:2012-10-16
Applicant: 武钢集团昆明钢铁股份有限公司
IPC: G01N1/32
Abstract: 本实用新型提供一种分析样品磨样固定装置,包括带凹槽的磨样机,置于凹槽底的旋转磨盘,位于凹槽槽口上的盖板,其特征在于盖板下方设有其上开多个通孔的孔板,盖板上对应开多个通孔。可方便地使小规格分析样品待测端,自上而下穿过盖板及孔板上的通孔而与磨盘接触后,即可通过旋转的磨盘进行研磨,使分析样品与磨盘保持垂直度而磨平、磨光滑,满足光谱分析要求,提高分析效率,适应生产需求。
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