一种高方阻掺镓氧化锌透明导电薄膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN108342690A

    公开(公告)日:2018-07-31

    申请号:CN201810182729.3

    申请日:2018-03-06

    CPC classification number: C23C14/35 C23C14/086 H01B5/14 H01B13/00

    Abstract: 本发明公开了一种高方阻掺镓氧化锌透明导电薄膜及其制备方法。所述透明导电薄膜采用镓掺杂氧化锌材料,所述透明导电薄膜中氧化锌的质量百分比为99~90wt.%,所述透明导电薄膜中氧化镓元素的质量百分比为1~10wt.%,所述透明导电薄膜的膜厚为40nm≤d≤100nm。该制备方法包括以下步骤:1)提供清洗后的洁净玻璃衬底;2)将玻璃衬底固定到镀膜真空室旋转基片台;真空室背底真空低于2.5×10-3Pa;3)采用射频磁控溅射镀膜工艺镀制薄膜。本发明中的高方阻掺镓氧化锌透明导电薄膜,其光学性能满足550nm可见光透射率>80%;其方块电阻R□>150kΩ/□。而且,该薄膜能够连续成膜,成膜均匀性佳,特别适用于IPS液晶显示器。

    一种DLC薄膜增硬玻璃及其制备方法

    公开(公告)号:CN108191258B

    公开(公告)日:2020-05-05

    申请号:CN201810091973.9

    申请日:2018-01-30

    Abstract: 本发明涉及一种DLC薄膜增硬玻璃及其制备方法。该DLC薄膜增硬玻璃包括玻璃基片以及依次设置于所述玻璃基体表面的缓冲层和DLC层,所述缓冲层依次包括SiO2层和SiC层。该DLC薄膜增硬玻璃的制备方法包括以下步骤:1)对玻璃基片进行表面处理;2)先利用磁控溅射方法在离子刻蚀清洗后的璃基片表面制备SiO2,得到基片/SiO2层,然后利用磁控溅射方法在SiO2层上制备SiC层,得到基片/SiO2/SiC缓冲层;3)制备SiO2/SiC/DLC层:利用磁控溅射方法在SiC层制备DLC层。本发明的制备方法可以在低温环境下,得到性能良好的DLC薄膜,显著提高玻璃的表面硬度和抗划伤性能。本发明的DLC薄膜增硬玻璃可以在显示器件保护玻璃盖板、玻璃台面、室内玻璃装饰立面领域有广泛的应用。

    一种DLC薄膜增硬玻璃及其制备方法

    公开(公告)号:CN108191258A

    公开(公告)日:2018-06-22

    申请号:CN201810091973.9

    申请日:2018-01-30

    Abstract: 本发明涉及一种DLC薄膜增硬玻璃及其制备方法。该DLC薄膜增硬玻璃包括玻璃基片以及依次设置于所述玻璃基体表面的缓冲层和DLC层,所述缓冲层依次包括SiO2层和SiC层。该DLC薄膜增硬玻璃的制备方法包括以下步骤:1)对玻璃基片进行表面处理;2)先利用磁控溅射方法在离子刻蚀清洗后的璃基片表面制备SiO2,得到基片/SiO2层,然后利用磁控溅射方法在SiO2层上制备SiC层,得到基片/SiO2/SiC缓冲层;3)制备SiO2/SiC/DLC层:利用磁控溅射方法在SiC层制备DLC层。本发明的制备方法可以在低温环境下,得到性能良好的DLC薄膜,显著提高玻璃的表面硬度和抗划伤性能。本发明的DLC薄膜增硬玻璃可以在显示器件保护玻璃盖板、玻璃台面、室内玻璃装饰立面领域有广泛的应用。

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