公开(公告)号：CN112624624A

公开(公告)日：2021-04-09

申请号：CN202011480036.6

申请日：2020-12-15

Applicant: 武汉理工大学

Inventor： 田守勤 ,  张明凤 ,  刘秋芬 ,  周学东 ,  赵修建

IPC: C03C17/25

Abstract: 本发明公开了一种增透膜的制备方法及其制备方法和应用，该制备方法包含以下步骤：(1)在衬底上制备氧化硅薄膜；(2)将氧化硅薄膜在含氨气的气氛下进行热处理，得到增透膜。本发明制备的薄膜可明显增加玻璃的可见‑近红外光透过率，本发明的制备方法操作简单，制备条件要求低，成本低，重复性好，可在大面积衬底上涂覆成膜，薄膜的增透效果好。

公开(公告)号：CN112624624B

公开(公告)日：2023-02-17

申请号：CN202011480036.6

申请日：2020-12-15

Applicant: 武汉理工大学

Inventor： 田守勤 ,  张明凤 ,  刘秋芬 ,  周学东 ,  赵修建

IPC: C03C17/25

Abstract: 本发明公开了一种增透膜的制备方法及其制备方法和应用，该制备方法包含以下步骤：(1)在衬底上制备氧化硅薄膜；(2)将氧化硅薄膜在含氨气的气氛下进行热处理，得到增透膜。本发明制备的薄膜可明显增加玻璃的可见‑近红外光透过率，本发明的制备方法操作简单，制备条件要求低，成本低，重复性好，可在大面积衬底上涂覆成膜，薄膜的增透效果好。

公开(公告)号：CN114436542A

公开(公告)日：2022-05-06

申请号：CN202210092593.3

申请日：2022-01-26

Applicant: 武汉理工大学

Inventor： 田守勤 ,  路孟凡 ,  张明凤 ,  周学东 ,  王孜翱 ,  赵修建

IPC: C03C17/23

Abstract: 本发明公开了一种基于二氧化碳气氛热处理的增透膜及其制备方法和应用。该增透膜通过将二氧化硅薄膜在含二氧化碳的气氛下进行热处理制备得到。本发明只需在薄膜退火时通入含二氧化碳的气氛进行热处理，即可显著提高薄膜的可见‑近红外透过率，操作简单，制备条件要求低，成本低，重复性好，可在大面积衬底上涂覆成膜，有利于工业化应用。