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公开(公告)号：CN101523570A
公开(公告)日：2009-09-02
申请号：CN200780038128.5
申请日：2007-10-12
Applicant: 欧姆龙株式会社 , 国立大学法人东北大学
IPC: H01L21/3065 , B01J19/08 , H01L21/31 , C23C16/455
Abstract: 可瞬时变更加工箱内气体介质的浓度，能够以高生产率且低成本来实现液晶设备或半导体设备的生产所需的等离子反应处理加工。对各个成分气体的压力控制型流量调整器提供的新的流量设定值设为，以在浓度变更前后总流量值相同作为条件，根据所假设的变更后的加工气体浓度通过逆运算而求出的值，并且排出管道中的压力控制器从变更开始仅限于在规定的微少时间，从压力设定模式被切换到阀开度设定模式，同时被提供应缓和刚变更后的压力变动的由经验求出的阀开度设定值。
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