一种低氧化锡含量ITO靶材及制备方法

    公开(公告)号:CN117185780A

    公开(公告)日:2023-12-08

    申请号:CN202311141585.4

    申请日:2023-09-06

    Abstract: 本发明公开了一种低氧化锡含量ITO靶材及制备方法,所述ITO靶材掺杂了0.02wt%±10%的二氧化硅和0.25wt%±10%的二氧化钛,氧化锡在氧化铟、氧化锡两者中的重量占比为1‑3。所述ITO靶材的制备方法包括:(1)称取氧化铟和氧化锡粉末,其中氧化锡粉末重量占比1‑3;再另外添加0.02wt%±10%的二氧化硅和0.25wt%±10%的二氧化钛,以无水乙醇为溶剂,球磨后烘干。(2)加入40wt%的乙酸再次充分研磨,获得浆料。(3)浆料置于模具中,缓慢加压至200‑300MPa,升温至400℃±10%,保温保压1‑2小时,得到ITO素坯。(4)ITO素坯在氧化气氛、1400‑1550℃温度下烧结,得到低氧化锡含量ITO靶材。本发明可以提高ITO薄膜中的载流子迁移率,有助于提高薄膜太阳能电池的性能。

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