公开(公告)号：CN119255463A

公开(公告)日：2025-01-03

申请号：CN202411280017.7

申请日：2024-09-12

Applicant: 桂林电子科技大学

Inventor： 李华 ,  蒙柳君 ,  蒋雪萍 ,  梁振保 ,  王风云 ,  杜晓霞

IPC: H05H1/26 ,  B33Y80/00 ,  B33Y30/00

Abstract: 本发明提供了一种等离子体射流离子源、制备方法及应用，该等离子体射流离子源，包括：安装体，安装体为一体成型，安装体具有金属容纳腔、正极安装位、第一注入孔和载气流道；金属容纳腔为环状结构，位于安装体内形成负极安装位，与正极安装位相对设置，且二者之间具有预设间距；正电极，固定于正极安装位；负电极，填充于金属容纳腔内，负电极的材料的熔点低于安装体的材料的熔点。上述的等离子体射流离子源中，由于安装体为一体成型的结构，金属容纳腔和正极安装位的预设间距，可以精确的控制在1mm以内。正电极固定在正极安装位上，因此负电极和正电极的电极间距即为预设间距，达到了精确控制电极间距，准确控制放电间距的目的。

公开(公告)号：CN119255462A

公开(公告)日：2025-01-03

申请号：CN202411198167.3

申请日：2024-08-29

Applicant: 桂林电子科技大学

Inventor： 李华 ,  梁振保 ,  王风云 ,  蒋雪萍 ,  杜晓霞

IPC: H05H1/26 ,  C02F1/30 ,  C02F1/46 ,  A61L2/14

Abstract: 本发明提供了一种等离子体射流喷嘴、FAIMS装置及应用。该等离子体射流喷嘴包括多级分流锥，等离子体射流每经过一层级分流锥，分流为沿分流锥的锥面流动的侧向流体和沿分流孔流动的中心流体。侧向流体流经支撑杆的后端分叉，形成多股均匀分布的等离子体流。中心流体逐级分流后，在最末一级分流孔的末端的开孔中分为多股等离子体流。而且各级分流锥的尺寸逐级缩小，使得每级分流中侧向流体的流量占比逐渐增大，保证后续层级形成的等离子体流具有足够流量，从而保证各层级的等离子体流的流速较为接近。该喷嘴结构较为简单，对加工精密度要求不高，使得等离子体射流形成多股流速接近的等离子体流，极大的增大等离子体射流的作用面积。