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公开(公告)号：CN113716673A
公开(公告)日：2021-11-30
申请号：CN202111089515.X
申请日：2021-09-16
Applicant: 桂林电子科技大学
IPC: C02F1/72 , C02F1/30 , C02F1/32 , C02F1/78 , C02F101/30
Abstract: 本申请涉及一种抗生素的去除方法，包括以下步骤：在待处理的废水中加入黄铁矿粉末，使得到的混合废水中的黄铁矿粉末的浓度大于等于0.5g/L，所述待处理的废水中包含抗生素；将所述混合废水进行等离子体射流处理。黄铁矿粉末能与等离子体产生的H2O2等发生芬顿(Fenton)反应，生成大量的羟自由基(·OH)，使抗生素降解效果显著提高。同时，将等离子体射流联合黄铁矿粉末利用光、H2O2和O3等发生催化反应生成·OH，加速有机物的降解，提高其能量效率，从而降解抗生素，并且降解率远高于相同实验条件下单独使用等离子体或黄铁矿对抗生素的降解率。上述抗生素的去除方法成本低廉、操作简便且无二次污染，可高效降解环境中残留的抗生素。
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公开(公告)号：CN112915231A
公开(公告)日：2021-06-08
申请号：CN202110105466.8
申请日：2021-01-26
Applicant: 桂林电子科技大学
Abstract: 本申请提供了一种等离子射流杀菌装置、设备及其应用，所述等离子射流杀菌装置包括：相互连接的等离子发生机构以及导流机构；等离子发生机构包括绝缘筒、电极环、电极针以及介质管，绝缘筒的另一端封闭，电极针设于绝缘筒内并延伸电极环中用于产生等离子射流，介质管套设于电极针外，且沿电极针的周向包围电极针延伸至电极环内的端部，介质管采用绝缘材料制成，导流机构与绝缘筒的内腔连通并用于产生离子风对等离子射流进行吹导。本申请提供的等离子射流杀菌装置，使得等离子在放电区域外的针尖处聚集形成等离子射流，抑制电极环与电极针之间形成弧光放电或火花放电，在提升安全性的同时提升了等离子射流的长度，增强了等离子射流的杀菌效果。
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公开(公告)号：CN112915230B
公开(公告)日：2022-11-29
申请号：CN202110102597.0
申请日：2021-01-26
Applicant: 桂林电子科技大学
Abstract: 本申请提供了一种等离子体射流装置及杀菌方法，该射流装置包括：支架、第一驱动组件和安装座，所述支架包括相对设置的第一侧和第二侧，所述第一侧用于放置待灭菌物体，所述第一驱动组件设置于所述第二侧，并驱动所述安装座旋转，所述安装座的旋转平面朝向所述待灭菌物体；所述安装座上设有第二驱动组件和喷射机构，所述第二驱动组件驱动所述喷射机构旋转，且在旋转过程中所述喷射机构的喷射端均朝向所述待灭菌物体，所述喷射机构的旋转平面与所述安装座的旋转平面相交。该射流装置无需设置多个喷射机构，利用可调节角度的单个喷射机构对待灭菌物体进行灭菌，灭菌面积大，均匀覆盖待灭菌区域，无需对待灭菌物体进行反复灭菌，降低了生产成本。
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公开(公告)号：CN112915230A
公开(公告)日：2021-06-08
申请号：CN202110102597.0
申请日：2021-01-26
Applicant: 桂林电子科技大学
Abstract: 本申请提供了一种等离子体射流装置及杀菌方法，该射流装置包括：支架、第一驱动组件和安装座，所述支架包括相对设置的第一侧和第二侧，所述第一侧用于放置待灭菌物体，所述第一驱动组件设置于所述第二侧，并驱动所述安装座旋转，所述安装座的旋转平面朝向所述待灭菌物体；所述安装座上设有第二驱动组件和喷射机构，所述第二驱动组件驱动所述喷射机构旋转，且在旋转过程中所述喷射机构的喷射端均朝向所述待灭菌物体，所述喷射机构的旋转平面与所述安装座的旋转平面相交。该射流装置无需设置多个喷射机构，利用可调节角度的单个喷射机构对待灭菌物体进行灭菌，灭菌面积大，均匀覆盖待灭菌区域，无需对待灭菌物体进行反复灭菌，降低了生产成本。
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