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公开(公告)号：CN114166800A
公开(公告)日：2022-03-11
申请号：CN202210021890.9
申请日：2022-01-10
Applicant: 桂林电子科技大学
Abstract: 本发明公开了一种旋转式可升降纹影装置及其使用方法，包括支撑框架、中空的支撑板、升降机构、旋转机构和光学部分，升降机构设在支撑框架内，支撑板的边缘通过滑块与升降机构滑动连接，升降机构带动支撑板在支撑框架内升降，旋转机构设在支撑板上；该装置可以形成Z型光路，且通过升降机构和旋转机构对光学部分进行升降和旋转，可以使光学部分相对于流场做上下运动和绕流场做旋转运动，实现竖直方向和水平方向上流场的多角度图像采集，相较于等效口径的抛物面反射镜成本大大降低，且该装置结构简单。
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公开(公告)号：CN112444371A
公开(公告)日：2021-03-05
申请号：CN202011302514.4
申请日：2020-11-19
Applicant: 桂林电子科技大学
IPC: G01M10/00
Abstract: 本发明公开了一种升降式大视场纹影仪及其使用方法，该纹影仪包括底座、升降机构、支撑框架、相机、刀口和抛物面反射镜，升降机构设置在底座的两端，支撑框架的两端水平固定架设在升降机构上，支撑框架的一端设置光学固定板，相机和刀口分别通过第一XY升降台、第二XY升降台设在光学固定板上，设置了刀口的第二XY升降台的一侧设有点光源，抛物面反射镜通过镜面固定架固定在镜框内，镜框竖直固定在支撑框架的另一端；其中刀口位于相机和抛物面反射镜之间，且相机、刀口和抛物面反射镜在同一条直线上；刀口和抛物面反射镜之间靠近抛物面反射镜一端的底座上设有烛台。该纹影仪结构简单，成本低，采用小口径的抛物面反射镜，就可获得大视场纹影图像。
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公开(公告)号：CN213336715U
公开(公告)日：2021-06-01
申请号：CN202022687614.5
申请日：2020-11-19
Applicant: 桂林电子科技大学
IPC: G01M10/00
Abstract: 本实用新型公开了一种升降式大视场纹影仪，该纹影仪包括底座、升降机构、支撑框架、相机、刀口和抛物面反射镜，升降机构设置在底座的两端，支撑框架的两端水平固定架设在升降机构上，支撑框架的一端设置光学固定板，相机和刀口分别通过第一XY升降台、第二XY升降台设在光学固定板上，设置了刀口的第二XY升降台的一侧设有点光源，抛物面反射镜通过镜面固定架固定在镜框内，镜框竖直固定在支撑框架的另一端；其中刀口位于相机和抛物面反射镜之间，且相机、刀口和抛物面反射镜在同一条直线上；刀口和抛物面反射镜之间靠近抛物面反射镜一端的底座上设有烛台。该纹影仪结构简单，成本低，采用小口径的抛物面反射镜，就可获得大视场纹影图像。
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公开(公告)号：CN216747396U
公开(公告)日：2022-06-14
申请号：CN202220048279.0
申请日：2022-01-10
Applicant: 桂林电子科技大学
Abstract: 本实用新型公开了一种旋转式可升降纹影装置，包括支撑框架、中空的支撑板、升降机构、旋转机构和光学部分，升降机构设在支撑框架内，支撑板的边缘通过滑块与升降机构滑动连接，升降机构带动支撑板在支撑框架内升降，旋转机构设在支撑板上；该装置可以形成Z型光路，且通过升降机构和旋转机构对光学部分进行升降和旋转，可以使光学部分相对于流场做上下运动和绕流场做旋转运动，实现竖直方向和水平方向上流场的多角度图像采集，相较于等效口径的抛物面反射镜成本大大降低，且该装置结构简单。
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