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公开(公告)号:CN105622888A
公开(公告)日:2016-06-01
申请号:CN201610178063.5
申请日:2016-03-28
Applicant: 桂林理工大学
IPC: C08G18/66 , C08G18/42 , C08G18/32 , C08G18/10 , C08K5/1539 , C08K3/04 , C08K3/36 , C08K7/06 , C08K7/24 , C08L97/02 , C08L1/04
CPC classification number: C08G18/10 , C08G18/4277 , C08G18/664 , C08G2280/00 , C08K3/04 , C08K3/36 , C08K5/1539 , C08K7/06 , C08K7/24 , C08L1/04 , C08L97/02 , C08G18/3215
Abstract: 本发明公开了一种高强度、低响应温度形状记忆高分子材料的制备方法。将聚合物二元醇先脱水,制得处理过的聚合物二元醇;在氮气保护下,将处理过的聚合物二元醇与二异氰酸酯及催化剂一起溶于N,N-二甲基甲酰胺中,在60~75℃下搅拌反应1~8h,制得端异氰酸酯聚氨酯预聚体;再加入扩链剂和填料,搅拌均匀,于60~100℃下搅拌反应1~12h,然后一起倒入50~80℃下预热过的模具中,在70~100℃下加热固化10~24h,即制得高强度、低响应温度形状记忆高分子材料。本发明方法操作简单,且所制得的形状记忆高分子材料具有低的响应温度、优异的力学和形状记忆性能。