一种具有下沉式空心内磁极结构的霍尔加速器

    公开(公告)号:CN112628098B

    公开(公告)日:2023-01-24

    申请号:CN202011407572.3

    申请日:2020-12-03

    Abstract: 本发明属于霍尔推力器技术领域,具体涉及一种具有下沉式空心内磁极结构的霍尔加速器,包括:阳极环、若干个进出口水嘴、内磁极、外磁极、进气板、进气挡板、支撑法兰、内屏蔽罩、外屏蔽罩、永磁体;本发明采用下沉式内磁极结构设计,使装置具有完全开放的引出通道,有利于装置结构进行尺寸上的缩放;调节永磁体放置数量,通过调节放电区域磁场可以大幅度提升阳极电压工作范围。

    圆柱形阳极层霍尔推力器寿命评估的仿真计算方法

    公开(公告)号:CN110851939A

    公开(公告)日:2020-02-28

    申请号:CN201810839483.2

    申请日:2018-07-27

    Abstract: 发明公开了圆柱形阳极层霍尔推力器寿命评估的仿真计算方法。首先建立三维几何模型,并通过磁场仿真软件获得三维磁场的空间分布;接着把三维几何模型和磁场数据导入到粒子模拟求解器VORPAL,获得轰击到磁极材料表面上的入射离子的位置、能量和入射角分布;之后考虑圆柱形阳极层霍尔推力器的特点,建立溅射模型;再由入射离子能量E0和入射角度θ的分布,以及磁极材料的能量阈值Ed,通过溅射模型获得一个入射离子溅射出来的原子数;最后由推力器磁极的刻蚀深度h以及入射离子数量守恒公式,可推导出推力器磁极的刻蚀速率表达式,通过刻蚀速率的分布可以对推力器进行寿命评估。

    一种具有下沉式空心内磁极结构的霍尔加速器

    公开(公告)号:CN112628098A

    公开(公告)日:2021-04-09

    申请号:CN202011407572.3

    申请日:2020-12-03

    Abstract: 本发明属于霍尔推力器技术领域,具体涉及一种具有下沉式空心内磁极结构的霍尔加速器,包括:阳极环、若干个进出口水嘴、内磁极、外磁极、进气板、进气挡板、支撑法兰、内屏蔽罩、外屏蔽罩、永磁体;本发明采用下沉式内磁极结构设计,使装置具有完全开放的引出通道,有利于装置结构进行尺寸上的缩放;调节永磁体放置数量,通过调节放电区域磁场可以大幅度提升阳极电压工作范围。

    强流金属离子源
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101851747A

    公开(公告)日:2010-10-06

    申请号:CN200910131412.8

    申请日:2009-03-30

    Abstract: 本发明公开了一种可工作于直流和脉冲两种模式的大面积、高能强流金属离子源。其特点是它采用磁场控制阴极弧放电产生直流金属等离子体,金属等离子体经磁镜场输运到离子引出区域,再经过栅极加速后获得高能离子束流;在等离子体输运区域中间加有由螺线管形成的反向磁岛,可以提高输出等离子体的均匀性,同时阻挡大颗粒进入离子引出区域,提高离子束流均匀性和稳定性;离子束流引出和加速方式可采用直流或脉冲模式,以获得纯离子束流或等离子体/离子束流;还可以利用送气管在等离子体产生区域充入工作气体,使之参与等离子体放电,获得金属和气体混合的离子束流。本装置可用于在工件上注入和沉积高质量反应薄膜,离子注入和离子镀膜等。

    强流金属离子源
    8.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101851747B

    公开(公告)日:2012-08-29

    申请号:CN200910131412.8

    申请日:2009-03-30

    Abstract: 本发明公开了一种可工作于直流和脉冲两种模式的大面积、高能强流金属离子源。其特点是它采用磁场控制阴极弧放电产生直流金属等离子体,金属等离子体经磁镜场输运到离子引出区域,再经过栅极加速后获得高能离子束流;在等离子体输运区域中间加有由螺线管形成的反向磁岛,可以提高输出等离子体的均匀性,同时阻挡大颗粒进入离子引出区域,提高离子束流均匀性和稳定性;离子束流引出和加速方式可采用直流或脉冲模式,以获得纯离子束流或等离子体/离子束流;还可以利用送气管在等离子体产生区域充入工作气体,使之参与等离子体放电,获得金属和气体混合的离子束流。本装置可用于在工件上注入和沉积高质量反应薄膜,离子注入和离子镀膜等。

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