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公开(公告)号：CN109417104A
公开(公告)日：2019-03-01
申请号：CN201780029783.8
申请日：2017-06-07
Applicant: 株式会社JET
Inventor： 熊谷晃
IPC: H01L31/0236
Abstract: 本发明提供一种可以在硅基板表面形成最佳的纹理结构的太阳能电池的制造方法。该方法中，对硅基板依次进行附着工序、第一蚀刻工序及第二蚀刻工序。在附着工序中，将硅基板浸渍在含有氢氟酸和硝酸银的第一水溶液中，以将银附着到硅基板表面上。第一水溶液被制备成硝酸银的摩尔浓度在9×10-5mol/L以上且1×10-3mol/L以下的范围内。在第一蚀刻工序中，将硅基板浸渍于在水中含有氢氟酸和过氧化氢的第二水溶液中，通过析出的银作为催化剂对硅基板进行蚀刻，从而在硅基板表面形成多个细孔以使硅基板表面多孔化。在第二蚀刻工序中，将硅基板浸渍在含有氢氟酸和硝酸的第三水溶液中以进行蚀刻，从而增大细孔的深度和开口尺寸。
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