公开(公告)号：CN102741012A

公开(公告)日：2012-10-17

申请号：CN201180008346.0

申请日：2011-01-31

Applicant: 株式会社藤仓 ,  技术研究组合BEANS研究所 ,  国立大学法人东京大学

Inventor： 额贺理 ,  寒川诚二 ,  杉山正和

IPC: B23K26/40 ,  B23K26/38

CPC classification number: B23K26/0624 ,  B23K26/0006 ,  B23K26/384 ,  B23K26/389 ,  B23K26/40 ,  B23K26/53 ,  B23K26/55 ,  B23K2103/50 ,  H01L21/30604 ,  H01L21/30608 ,  H01L21/3065 ,  Y10T428/24

Abstract: 在本发明的微细构造的形成方法中，准备具有加工适合值的基板；对上述基板的内部，以接近于上述基板的上述加工适合值的照射强度，将具有皮秒级以下的脉冲时间宽度的激光在由上述激光的传播方向和与上述激光的偏振方向（电场方向）垂直的方向构成的平面内进行照射；在上述激光聚光的焦点以及离该焦点近的区域形成构造改性部；对上述构造改性部选择性地进行蚀刻处理，形成由微细孔构成的微细构造。

公开(公告)号：CN102741010A

公开(公告)日：2012-10-17

申请号：CN201180008380.8

申请日：2011-01-31

Applicant: 株式会社藤仓 ,  技术研究组合BEANS研究所 ,  国立大学法人东京大学

Inventor： 额贺理 ,  山本敏 ,  寒川诚二 ,  杉山正和

IPC: B23K26/32 ,  B23K26/00 ,  B23K26/36 ,  C03C15/00 ,  C03C23/00

CPC classification number: C03C23/0025 ,  B23K26/0624 ,  B23K26/361 ,  Y10T428/24479

Abstract: 一种表面微细构造的形成方法，该方法包括：第一工序，准备具有加工合适值的基板，以接近于上述基板的上述加工合适值的照射强度、或者以加工合适值以上且烧蚀阈值以下的照射强度，对与上述基板的表面接近的部分照射具有皮秒量级以下的脉冲时间宽度的激光，在上述激光聚光的焦点以及接近于该焦点的区域中以自组织的方式形成周期性地配置第一改性部与第二改性部的周期构造；和第二工序，通过对形成有上述周期构造的上述基板的表面进行蚀刻处理，形成使上述第一改性部为凹部的凹凸构造。

公开(公告)号：CN102741012B

公开(公告)日：2014-12-24

申请号：CN201180008346.0

申请日：2011-01-31

Applicant: 株式会社藤仓 ,  国立大学法人东京大学

Inventor： 额贺理 ,  寒川诚二 ,  杉山正和

IPC: B23K26/00 ,  B23K26/06 ,  B23K26/38 ,  B23K26/40

CPC classification number: B23K26/0624 ,  B23K26/0006 ,  B23K26/384 ,  B23K26/389 ,  B23K26/40 ,  B23K26/53 ,  B23K26/55 ,  B23K2103/50 ,  H01L21/30604 ,  H01L21/30608 ,  H01L21/3065 ,  Y10T428/24

Abstract: 在本发明的微细构造的形成方法中，准备具有加工适合值的基板；对上述基板的内部，以接近于上述基板的上述加工适合值的照射强度，将具有皮秒级以下的脉冲时间宽度的激光在由上述激光的传播方向和与上述激光的偏振方向（电场方向）垂直的方向构成的平面内进行照射；在上述激光聚光的焦点以及离该焦点近的区域形成构造改性部；对上述构造改性部选择性地进行蚀刻处理，形成由微细孔构成的微细构造。