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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1726116A
公开(公告)日：2006-01-25
申请号：CN200380101631.2
申请日：2003-10-15
IPC: B24B49/12
Abstract: 抛光状态监测装置测量工件之被抛光的表面的特征值，以确定抛光结束点的定时。抛光状态监测装置包括：发光单元，用于将来自光源的光施加到被抛光的工件的表面；光接收单元，用于接收来自工件之表面的反射光；分光镜单元，用于将由光接收单元接收的反射光分开成具有各自波长的多条光线，以及多个光接收元件，用于累积检测的光线作为电信息。抛光状态检测设备还包括：光谱数据产生器，用于读取通过光接收元件累积的电信息以及产生反射光的光谱数据；以及处理器，用于基于由光谱数据产生器产生的光谱数据来计算工件之表面上预定的特征值。
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公开(公告)号：CN101530983A
公开(公告)日：2009-09-16
申请号：CN200910133188.6
申请日：2003-10-15
IPC: B24B49/12 , B24B29/02 , H01L21/304
Abstract: 一种抛光状态监测装置，包括：光源；发光单元，设置在具有抛光表面的抛光台中，用于将光从光源施加到工件之被抛光的表面；光接收单元，设置在抛光台中，用于接收来自工件表面的反射光；分光镜单元，用于将由光接收单元接收的反射光分开成多条光线；多个光接收元件，用于检测由分光镜单元分开的多条光线和累积检测的多条光线；光谱数据产生器，用于读取由光接收元件累积的信息，以及产生反射光的光谱数据；控制单元，用于控制光接收元件，以在抛光台旋转时执行采样处理；以及处理器，用于根据包括乘法的计算来计算工件表面的预定特征值。
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公开(公告)号：CN100488729C
公开(公告)日：2009-05-20
申请号：CN200380101631.2
申请日：2003-10-15
IPC: B24B49/12
Abstract: 抛光状态监测装置测量工件之被抛光的表面的特征值，以确定抛光结束点的定时。抛光状态监测装置包括：发光单元，用于将来自光源的光施加到被抛光的工件的表面；光接收单元，用于接收来自工件之表面的反射光；分光镜单元，用于将由光接收单元接收的反射光分开成具有各自波长的多条光线，以及多个光接收元件，用于累积检测的光线作为电信息。抛光状态检测设备还包括：光谱数据产生器，用于读取通过光接收元件累积的电信息以及产生反射光的光谱数据；以及处理器，用于基于由光谱数据产生器产生的光谱数据来计算工件之表面上预定的特征值。
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公开(公告)号：CN101530983B
公开(公告)日：2011-03-16
申请号：CN200910133188.6
申请日：2003-10-15
IPC: B24B49/12 , B24B29/02 , H01L21/304
Abstract: 一种抛光状态监测装置，包括：光源；发光单元，设置在具有抛光表面的抛光台中，用于将光从光源施加到工件之被抛光的表面；光接收单元，设置在抛光台中，用于接收来自工件表面的反射光；分光镜单元，用于将由光接收单元接收的反射光分开成多条光线；多个光接收元件，用于检测由分光镜单元分开的多条光线和累积检测的多条光线；光谱数据产生器，用于读取由光接收元件累积的信息，以及产生反射光的光谱数据；控制单元，用于控制光接收元件，以在抛光台旋转时执行采样处理；以及处理器，用于根据包括乘法的计算来计算工件表面的预定特征值。
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公开(公告)号：CN1065332A
公开(公告)日：1992-10-14
申请号：CN92102012.0
申请日：1992-03-23
Applicant: 株式会社岛津制作所
Inventor： 新屋和也
IPC: G01G7/04
CPC classification number: G01G7/045
Abstract: 一种电子天平使电流流到置于磁场中的施力线圈所产生的力与支承在荷重承载部的盘上荷重平衡，由此状态施力线圈所流的电流值求出荷重大小，通过控制使上述施力线圈中所流的脉冲电流为由比相应电子天平显示位数容量还小的位数所确定的工作负载脉冲电流，且使该脉冲电流的工作负载在规定时间内以规定比率变化来与荷重平衡，而使分辨率虚拟地提高，以获得低成本高分辨率的天平。
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