公开(公告)号：CN101414549A

公开(公告)日：2009-04-22

申请号：CN200810166702.1

申请日：2008-10-17

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 森泽伸哉 ,  松田尚起 ,  小岛靖

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/02 ,  H01L21/306 ,  B08B3/00

Abstract: 一种基板清洗设备被用于使用清洗液清洗基板。该基板清洗设备包括设置用于水平地保持基板的基板保持机构、设置用于使所述基板保持机构保持的基板转动的转动机构、用于将清洗液供给到基板的液体供给喷嘴、以及设置在基板周围并可以与基板大体相同速度转动的旋转盖。旋转盖具有被成形用于环绕基板的内周面。内周面从其下端到其上端径向向内倾斜。

公开(公告)号：CN101414549B

公开(公告)日：2012-01-25

申请号：CN200810166702.1

申请日：2008-10-17

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 森泽伸哉 ,  松田尚起 ,  小岛靖

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/02 ,  H01L21/306 ,  B08B3/00

Abstract: 一种基板清洗设备被用于使用清洗液清洗基板。该基板清洗设备包括设置用于水平地保持基板的基板保持机构、设置用于使所述基板保持机构保持的基板转动的转动机构、用于将清洗液供给到基板的液体供给喷嘴、以及设置在基板周围并可以与基板大体相同速度转动的旋转盖。旋转盖具有被成形用于环绕基板的内周面。内周面从其下端到其上端径向向内倾斜。